Modelo: MDST-6100
Ang ICP dry plasma asher ay angkop para sa mga aplikasyon tulad ng descumming (pre-treatment at pag-alis ng residue), pag-alis ng polymer (PI, BCB, PBO), at pag-alis ng photoresist matapos ang ion implantation; ang chamber ay kasya para sa 8-inch na sample (may kakayahang gamitin ang 4-inch at 6-inch na sukat).
ICP Dry Plasma Photoresist Stripper
Ang ICP dry plasma asher ay angkop para sa mga aplikasyon tulad ng descumming (pre-treatment at pag-alis ng residue), pag-alis ng polymer (PI, BCB, PBO), at pag-alis ng photoresist matapos ang ion implantation; ang chamber ay kasya para sa 8-inch na sample (may kakayahang gamitin ang 4-inch at 6-inch na sukat).
Ang hitsura ng kasangkapan ay nakasalalay sa patuloy na mga upgrade at pag-aadjust; ang aktuwal na produkto na inilalakip ay ang magiging batayan.
Kabutihan:
Mataas na antas ng plasma ionization at decomposition
Matapos ang plasma treatment, mataas ang reproducibility
Dry etching, walang pinagmumulan ng polusyon
Pangasiwaan ang pressure at temperature gamit ang butterfly valves
Kakayahang panatilihin ang plasma sa mataas na presyon
Paghiihiwalay ng High Voltage Source at Ion Generator
Ang microwave junction at magnetic circuit ay compatible
Kakayahang tugunan ang mga kailangan ng customer
Mababang temperatura habang pinoproseso
Mabilis na bilis ng pagtugon at maikling oras ng pagtugon
Modelo |
MDST6100 |
Pinagmulan ng plasma |
frekuensi ng Radio |
kuryente |
1000W |
Saklaw ng Aplikasyon |
8 pulgada (katugma sa 4 o 6 pulgada) |
Sukat ng kahon |
25 Pieces |
Kabuuang sukat |
L1696xW2170xH2146mm |
Kontrol ng sistema |
PLC |
Sistema ng kahon para sa materyales |
Awtomatiko |
Tunay na mga litrato ng kagamitan:
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Lahat ng Karapatan ay Nakalaan
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
