Tillverkare |
Minder-Hightech |
Minder-Hightech |
Minder-Hightech |
Minder-Hightech |
Modell |
MD-G25A |
MD-G25D |
MD-G31 |
MD-G33 |
Exponeringshuvud NEJ. |
1 exponeringshuvud |
1 exponeringshuvud |
2 exponeringshuvud |
2 exponeringshuvud |
Typ av ljuskälla |
Kvicksilverlampljud |
Ultraviolett ljuskälla |
Kvicksilverlampljud |
Ultraviolett ljuskälla |
Expositionsområde |
≤∅100mm |
φ100 mm |
≤∅120mm |
≥∅115mm |
Exponeringsläge |
Kontaktexponering |
mikro-kraftparallellteknik |
mikro-kraftparallellteknik |
mikro-kraftparallellteknik |
Exponeringsojämnahet |
∅100mm<±4% |
≤ ± 3% |
∅100mm≤±6% |
≤±3% Expositionsintensitet ≥20mw/cm2 (365nm, 404nm, 435nm Kombinerad UV |
Substratjocklek |
1-5mm |
≤5 mm |
0,1-1mm |
≤5 mm |
Expositionsupplösning |
3 μm |
1 μm |
5 μm |
1 μm |
Belysningsomfång |
∅115mm |
∅120mm |
∅120mm |
∅130mm |
Kamerasystem |
System för binokular avstånd |
dubbel-fält CCD-system |
dubbel-fält CCD-system |
dubbel-fält CCD-system |
Mikroskopssystem |
50-375 kontinuerlig zoom |
91x ~ 570X kontinuerlig zoom (målobjektiv 1.6x ~ 10x kontinuerlig zoom), justeringsområdet för dubbla målobjektivets avstånd är 50mm ~ 120mm |
0,7-4,5 kontinuerlig förstoring |
60x, 120x kontinuerlig förstoring (målobjektivförstoring 2x, 4x två), dubbel målobjektivjusterbar avstånd 25mm-70mm |
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved