Höjdpunkt
Introduktion:
Den dubbelmålade magnetron-sputteranläggningen är en laboratorie-specifik sputteranläggning som utvecklats av vårt företag. Utrustningen kan utrustas med både en likströmskälla och en RF-strömkälla, med effekt inom intervallet 500 W till 1000 W. Jämfört med vanlig plasma-sputtering har magnetron-sputtering fördelarna med hög energi och hög hastighet, hög beläggningshastighet samt låg temperaturökning hos provet. Det är en typisk snabb och lågtemperatur-sputterprocess. Magnetrontarget är utrustat med ett vattenkyldt mellanskikt. Vattenkylningsanläggningen kan effektivt avleda värme och förhindra värmeackumulering på targetytan, så att magnetron-beläggningen kan fungera stabilt under lång tid. Utrustningen har utformats kompakt för att uppnå en balans mellan volym och prestanda, med en vacker utformning och omfattande funktioner. Hela maskinen styrs via en pekskärm med en inbyggd en-knappsbeläggningsprogram, vilket gör den enkel och lätt att använda. Den är en idealisk utrustning för framställning av tunna filmer i laboratoriemiljö.
Applikation: Kan användas för att framställa enskilda eller flerskikts ferroelektriska tunna filmer, ledande filmer, legeringsfilmer, halvledarfilmer, keramiska filmer, dielektriska filmer, optiska filmer m.m.