struktur |
förklara |
Exponering av arbetsytan |
Expositionsområde: arbetsyta, substratplacering område |
Optiskt system |
Laserutsläpp formningsområde |
Miljökontrollsystem |
Kontrollera enhetens inre temperatur och positivtryck |
Plattformsystem |
Styr rörelsen av exponeringsbordet för att slutföra exponeringsvägens operation |
Kontrollsystem |
Kontrollsystem för hela utrustningen |
Nej. |
Miljö |
Kräver |
1 |
Ljuskällmiljö |
Gul ljus |
2 |
Temperatur |
22℃±2℃ |
3 |
Fuktighet |
50%±10% |
4 |
Renlighet |
1000 |
5 |
CDA |
0.6±0.1Mpa, 200LPM, torr, ren luft |
6 |
Strömförsörjningsaggregat |
220~240V, 50/60Hz, 2.5KW; Jorden måste vara jordad, |
7 |
Kylvatten |
Temp.：10℃~ 20℃ Tryck：0.3MPa ~ 0.5MPa Flöde：20L/min Tryckskillnad：0.3MPa eller mer Anslutningskaliber：Rc3/8 |
8 |
Plats för mötet |
nivå：±3mm/3000mm skakning：VC-B Axel：750kg/㎡ |
10 |
Internet |
En nätverksport |
11 |
Maskinstorlek |
1300*1100*2100mm |
12 |
Anordningens vikt |
1500 kg |
Nej. |
Projekt |
- Specificera. |
Kommentar |
1 |
Upplösning |
0,6um/eller annan krav |
AZ703, AZ1350 |
2 |
CDU |
±10%@1um |
|
3 |
Substratjocklek |
0.2mm～4mm |
|
4 |
Datumruts noggrannhet |
60nm |
|
5 |
Overlay |
±500nm |
130 mm x 130 mm |
6 |
Sammanfogningsnoggrannhet |
±200nm |
AZ703 |
7 |
MAX exponeringsstorlek |
190X190mm |
|
8 |
Genomströmning |
≥300mm2/min |
≤50mj/cm2; |
9 |
ljuskälla |
LD 375nm |
|
10 |
ljusstyrka |
6W |
|
11 |
Energijämnahet |
≥95% |
|
12 |
ljuslivstid |
10000h |
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
