Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
Pridobi ponudbo

Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Domov
O nas
Oprema MH
Rešitev
Uporabniki Iz Tuja
Video
Kontaktirajte nas
Domov> Odstranitev PR RTP USC
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista
  • Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista

Polprevodniški taler Kiselikov etčenje RIE Reaktivno ionsko etčenje Plazmeni stroj za odstranjevanje fotoresista

Pridobite brezplačen predračun
Opis produkta

RIE Plazmensko odstranjevanje fotoresistiranja stroj

RIE Plazmensko odstranjevanje fotoresistiranja stroj primeren za lepiljenje karbida kremenika, odstranjevanje površinskih ostanek, lepiljenje kremenikega oksida ali nitrida itd. Prostor je primeren za vzorce velikosti 4-8 palcev
Izrezovanje kovinskega karbida
Površinsko čiščenje po lepiljenju
DESCUM
Trda maska, suho odstranjevanje
Izrezovanje oksida ali nitrida silicija
Odstranitev optičnega upora med medijema
Odstranitev površinskega ostanka
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Specificacija
PLASMA vir
RF
Moč
ICP
_
BIAS
1000W (možnost)
Namena uporabe
4~8 palec
Število obdelanih pladenkov
1
Izgledne razmere
850mmx900mmx1850mm
Kontrola sistema
PLC
Stopnja avtomatizacije
Navodila
Delavnici
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Pakiranje & Dostava
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Podjetni profil
16 let izkušenj s izvozom opreme! Lahko vam ponudimo kompleksno rešitev za procese in opremo v polprevodniškem delu!
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

Več izdelkov

Povpraševanje

Avtorske pravice © Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd. Vse pravice pridržane

Politika zasebnosti

Povpraševanje Email Whatsapp VRH
×

Opišite se