Wprowadzenie:
Podwójny naparzacz magnetonowy z wykorzystaniem rozpylania katodowego to specjalistyczny urządzenie laboratoryjne opracowane przez naszą firmę. Urządzenie może być wyposażone w zasilacz prądu stałego (DC) oraz zasilacz prądu przemiennego wysokiej częstotliwości (RF), przy mocy od 500 W do 1000 W. W porównaniu do zwykłego rozpylania plazmowego rozpylanie magnetonowe charakteryzuje się takimi zaletami jak wysoka energia i duża prędkość procesu, wysoka szybkość naparzania oraz niewielki wzrost temperatury próbki. Jest to typowe rozpylanie szybkie i niskotemperaturowe. Celownik magnetonowy jest wyposażony w warstwę chłodzącą z obiegiem wody. Chłodnica wodna skutecznie odprowadza ciepło i zapobiega jego gromadzeniu się na powierzchni celownika, dzięki czemu proces naparzania magnetonowego może przebiegać stabilnie przez dłuższy czas. Urządzenie zostało zaprojektowane w sposób kompaktowy, zapewniając optymalny balans pomiędzy objętością a wydajnością, przy jednoczesnym atrakcyjnym wyglądzie i kompleksowym zestawie funkcji. Całe urządzenie sterowane jest za pomocą ekranu dotykowego, w którym zintegrowano program jednoprzyciskowego naparzania – obsługa jest więc prosta i intuicyjna. Jest to idealne urządzenie do przygotowywania cienkich warstw w warunkach laboratoryjnych.
Zastosowanie:
Może być stosowany do przygotowywania jednowarstwowych lub wielowarstwowych cienkich warstw ferroelektrycznych, warstw przewodzących, warstw stopów, warstw półprzewodnikowych, warstw ceramicznych, warstw dielektrycznych, warstw optycznych itp.