Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Uzyskaj wycenę

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Strona Główna
O Nas
MH Urządzenia
Rozwiązanie
Użytkownicy Zagraniczni
Wideo
Skontaktuj się z nami
Strona główna> Usunięcie PR RTP USC
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna
  • Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna

Czyszczenie płytki halogenowej po etczym ICP Eksperymentalny Plazma Usuwanie Fotoresystu Maszyna

Uzyskaj bezpłatny wycenę
Opis produktu

Doświadczalna maszyna plazmy ICP do usuwania fotooporu

Usuwanie polimerów, etching tlenku krzemu lub karbiku krzemu, czyszczenie powierzchni po etczu
Usunięcie polimeru ASHING Usunięcie warstwy maskującej metoda sucha Usunięcie fotooporu po implantacji jonów Usunięcie optycznego oporu między nośnikami Usunięcie fotooporu w procesie BAW/SAW Sucha czystość warstwy antyrefleksyjnej filmu graficznego Etching tlenku krzemu lub nitru krzemu Usunięcie resztek z powierzchni Czystość powierzchni po etchingu Etching karbiku krzemu
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Specyfikacja
Źródło plazmy
RF+BIAS
Moc
1000 W
1000 W
600 W
600 W
Zakres zastosowań
4-8 cali
Liczba pojedynczych wycinków do przetworzenia
one
Wymiary zewnętrzne
1140mm x 1050mm x 1620mm
System sterowania
System Sterowania Przemysłowego
Poziom automatyzacji
Ręczny
Fabrycznym
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Pakowanie i Dostawa
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Profil Firmy
16 lat doświadczenia w eksportowaniu urządzeń! Możemy zapewnić Ci kompleksowe rozwiązania dla procesów i urządzeń na etapie frontowym półprzewodników!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Więcej produktów

Zapytanie

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Wszelkie prawa zastrzeżone

Polityka prywatności

Zapytanie Email Whatsapp WeChat
GÓRA
×

Skontaktuj się z nami