Suchy plazmowy odtłuszczaacz fotorezystu ICP , China Suchy plazmowy odtłuszczaacz fotorezystu ICP Manufacturers, Suppliers, Factory

Suchy plazmowy odtłuszczaacz fotorezystu ICP

Suchy plazmowy odtłuszczaacz fotorezystu ICP służy głównie do usuwania polimerów, popielania, usuwania nadmiaru fotorezystu (descumming), usuwania fotorezystu po implantacji jonowej oraz czyszczenia powierzchni z pozostałości. Komora MDST3100 obsługuje próbki o średnicy od 4 do 8 cali przy przetwarzaniu pojedynczej płytki, natomiast komora MDST3200 obsługuje próbki o średnicy od 4 do 8 cali przy przetwarzaniu dwóch płytek w jednej partii.

Wygląd urządzenia podlega ciągłym ulepszeniom i dostosowaniom; decydujący jest rzeczywisty produkt wysyłany.

头图4.jpg

工艺流程.png(5c78296a74).jpg 去除光刻胶去胶机 (5)(130d03181e).jpg

Zapiekany

Usuwanie polimerów

DESCUM

Suche czyszczenie warstwy masy twardej (hard mask)

Usunięcie fotoopornika po implantacji jonowej

Usuwanie resztek z powierzchni

Usunięcie fotoopornika w procesie BAW/SAW

Suche czyszczenie warstwy antyodbijającej folii graficznej

Czyszczenie powierzchni po etchingu

Zaleta:

Wysoki stopień jonizacji i rozkładu plazmy

Po obróbce plazmą powtarzalność jest wysoka

Suche trawienie, brak źródła zanieczyszczenia

Sterowanie ciśnieniem i temperaturą za pomocą zaworów motylkowych

Możliwość utrzymywania plazmy przy wysokim ciśnieniu

Oddzielenie źródła wysokiego napięcia od generatora jonów

Łącze mikrofalowe i obwód magnetyczny są kompatybilne

Możliwość spełnienia wymagań klienta

Niska temperatura podczas przetwarzania

Szybka prędkość reakcji i krótki czas reakcji

Test data 2.jpg Test data 1.jpg Test data 3.jpg

Model		MDST3100	MDST3200
Źródło plazmy		RF	RF
Moc	ICP	1000 W	1000 W
	BIAS	NA	NA
Zakres zastosowania		4–8 cali	4–8 cali
Liczba płytek krzemowych przetwarzanych w jednej operacji		1	2
Wymiary ogólne		1300×1190×1847 mm	1300×1650×1850 mm
System sterowania		System Sterowania Przemysłowego
stopień automatyzacji		Automatyczna