Blog-Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Vil dette tillate eksponering av små substrater, for eksempel med diameter 3 mm? / Ja, chuck-bordet må tilpasses.
2026-03-30 07:19:23
Når det gjelder arbeid med små substrater, som for eksempel de som er bare 3 mm i størrelse, er det svært viktig å ha riktige verktøy. Hos Minder-Hightech vet vi at disse små delene krever spesiell omsorg. For å håndtere dem godt, tilpasser vi ofte våre spennbord…
Vis mer
Er det mulig å operere med bare ett mål, og kan det flyttes til sentrum av masken?/ja
2026-03-28 22:14:03
Å drive et foretak er som å spille et spill der du lager reglene. Ved Minder-Hightech mener vi at å holde seg til ett tydelig mål kan hjelpe oss til å spille bedre. Tenk deg en basketballspiller som bare vil score. De kan trenge mer og lære nye trekk...
Vis mer
Hva er den minste avstanden der de to målene kan bringes sammen? /50 mm
2026-03-27 04:19:42
Minder-Hightech er et selskap som fokuserer på smarte produksjonsløsninger. Når vi snakker om å sette sammen to mål, dukker ett nøkkelnummer opp: 50 mm. Denne avstanden er viktig på mange områder, for eksempel ved grossistkjøp og i produksjon. Å få til dette kan hjelpe til å forbedre …
Vis mer
Kan din reaktive ionetsning/induktivt koblet plasma håndtere 8-tommers wafer?
2026-02-16 02:50:16
Størrelse er ekstremt viktig når det gjelder fremstilling av datamikrochip. Wafer er tynne skiver av materiale, vanligvis silisium, som elektroniske komponenter produseres fra. De fleste moderne fabrikker er i ferd med å overgå til bruk av større wafer, slik som …
Vis mer
Hvor mye indusert koblet plasmautstyr (ICP) kan systemet ditt oppnå for etsing av 4-tommers wafer? Etsingshastighet og sideveggsteilhet
2026-02-15 21:44:22
Indusert koblet plasmaetsing (ICP) er en mye brukt teknikk i flere industrisektorer, som for eksempel VLSI-fabrikasjon. Dette er teknikken vi kan bruke til å etse mønstre inn i materialer som silisiumwafer. En typisk waferdimensjon ...
Vis mer
Kilefeilkompensasjon (WEC) i maskinjusteringsanordningen som brukes i chiplaboratorier: Sikrer den at masken og vafers overflater er
2026-02-05 07:42:01
Kilefeilkompensasjon (WEC) er en smart metode som brukes i chiplaboratorier for å sikre at maskens og vafers overflater justeres korrekt under produksjonen av mikroskopiske datamikrochipper. Slike chipper er avgjørende for alle typer teknologi, fra smarttelefoner til datamaskiner. Når ...
Vis mer
Eksponeringsmoduser for maskinjusteringsutstyr: Kan nærhets-, myk kontakt-, hard kontakt- og vakuumkontaktmoduser eksistere samtidig?
2026-01-29 22:41:54
Maskinjusteringsutstyr brukes til fremstilling av mikrokomponenter og andre presisjonskomponenter. De lager mønstre på materialer, ofte svært små og intrikate. Det finnes flere ulike metoder for hvordan maskene kan bringes i kontakt under denne prosessen, inkludert...
Vis mer
Kan maskinjusteringsutstyret som brukes i universitetslaboratorier oppnå en nøyaktighet på 0,5 µm for justering fra oversiden og en nøyaktighet for justering fra undersiden på ...
2026-01-26 13:21:07
Maskinjusteringsutstyr brukes mye som laboratorieutstyr i universiteter til ulike formål, blant annet for strukturering av materialer. Disse maskinene bruker maskefor å kaste lys på materialene, noe som hjelper til å lage spesifikke former og design. Dette kan føre til ...
Vis mer
Høypresisjonsmaskejusteringsanlegg med oppløsning: Kan det oppnå en oppløsning så lav som 0,6 µm i vakuumkontaktmodus?
2026-01-24 06:21:16
Høypresisjonsmaskejusteringsanlegg er avgjørende for mikrofabrikasjon, eller i alle fall når det gjelder overføring av svært små mønstre i materialer. Et av spørsmålene vi ofte får er: «Kan disse systemene oppnå en oppløsning ned til 0,6 mikrometer i vakuumkontaktmodus...»
Vis mer
Kan utføre reaktiv ionetsning / induktivt koblet plasmautstyr av type pick-and-place-lasterobot, kontrollert via Ethernet, i stand til å
2026-01-22 04:40:49
Vi hos Minder-Hightech vet at du ønsker å høre om en spennende del av moderne produksjon: roboter for reaktiv ionetsning i konvekse hjørner og pick-and-place! Disse robotene er ikke bare maskiner; de gjør oss raskere og bedre. Robotene er cru...
Vis mer
Hvor mye ekstra kostnad medfører det å utstyre induktivt koblete plasma-maskiner med integrert OES (optisk emisjonsspektroskopi)
2026-01-17 10:28:01
ICP med integrert OES: ICP-maskiner med integrert optisk emisjonsspektroskopi (OES) er arbeidshester i laboratoriet og produksjonsanlegget. De hjelper til med analyse av materialer og bestemmelse av sammensetningen deres. Hva er de tilleggsgebyrene&...
Vis mer
Kan Reactive lon Etching-utstyret bruke følgende prosessgasser: oksygen, nitrogen, 95 % nitrogen / 5 % hydrogen, svovelheks
2026-01-16 00:21:15
RIE (reaktiv ionetse) er en nøkkelt teknikk for mikroelektronikk- og halvlederproduksjon. RIE-verktøy krever gasser for å fungere skikkelig, slik som oksygen, nitrogen, kombinasjon av nitrid/hydrid og svovelfluorid. Hver av disse gassene fyll...
Vis mer

Forrige
1
2
3
4
5
6
...
11
Neste

Hjemmeside

Om oss

MH Utstyr

Case-video

Løsning

Utlandbrukere

Kontakt oss

Vil dette tillate eksponering av små substrater, for eksempel med diameter 3 mm? / Ja, chuck-bordet må tilpasses.

Er det mulig å operere med bare ett mål, og kan det flyttes til sentrum av masken?/ja

Hva er den minste avstanden der de to målene kan bringes sammen? /50 mm

Kan din reaktive ionetsning/induktivt koblet plasma håndtere 8-tommers wafer?

Hvor mye indusert koblet plasmautstyr (ICP) kan systemet ditt oppnå for etsing av 4-tommers wafer? Etsingshastighet og sideveggsteilhet

Kilefeilkompensasjon (WEC) i maskinjusteringsanordningen som brukes i chiplaboratorier: Sikrer den at masken og vafers overflater er

Eksponeringsmoduser for maskinjusteringsutstyr: Kan nærhets-, myk kontakt-, hard kontakt- og vakuumkontaktmoduser eksistere samtidig?

Kan maskinjusteringsutstyret som brukes i universitetslaboratorier oppnå en nøyaktighet på 0,5 µm for justering fra oversiden og en nøyaktighet for justering fra undersiden på ...

Høypresisjonsmaskejusteringsanlegg med oppløsning: Kan det oppnå en oppløsning så lav som 0,6 µm i vakuumkontaktmodus?

Kan utføre reaktiv ionetsning / induktivt koblet plasmautstyr av type pick-and-place-lasterobot, kontrollert via Ethernet, i stand til å

Hvor mye ekstra kostnad medfører det å utstyre induktivt koblete plasma-maskiner med integrert OES (optisk emisjonsspektroskopi)

Kan Reactive lon Etching-utstyret bruke følgende prosessgasser: oksygen, nitrogen, 95 % nitrogen / 5 % hydrogen, svovelheks

Artikler

Produkter

Ta kontakt