Het eerste wat we doen is de oppervlakte van het basismateriaal bedekken met een speciale lichtreactieve stof. Het is een fotosensitief materiaal, dat een belangrijke rol speelt in het proces. Vervolgens gebruiken we een masker met een bepaald patroon op zijn oppervlak en plaatsen we dit boven die laag. Het masker dient als een sjabloon met gaten die licht doorlaten op geselecteerde locaties. Daarna exposeeren we het patroon op het masker aan UV-licht dat we niet kunnen zien. Dit licht creëert een afbeelding van de fotosensitieve stof, vergelijkbaar met hoe zonlicht een schaduw kan maken wanneer je het door een uitsnijpatroon laat schijnen. De laatste stap bestaat uit het weken van het draagmateriaal in een soort oplossing bekend als een ontwikkelaar. Dit proces verwijdert het deel van de fotosensitieve laag dat blootgesteld is aan licht en toont een patroon op het basismateriaal.
IN Wire Bonder een van de grootste onderdelen die beheerd moeten worden, zijn de fouten die optreden tijdens de drie hoofdstappen en het is zeer belangrijk om goede, nauwkeurige resultaten te behalen. Coating a) Het coating betreft het gelijkmatig bedekken van het basismateriaal met het lichtgevoelige materiaal. Dat wil zeggen, elk stukje van het basismateriaal moet dezelfde hoeveelheid speciale ingrediënt hebben. Met andere woorden, we gebruiken meestal machines om die perfecte rechte en vlakke oppervlakte te bereiken. Tijdens deze stap controleren we de kwaliteit (geen bobbels of gebreken aan de oppervlaktekant)
De ontwikkelaar oplossing wordt gebruikt om het blootgestelde deel van het materiaal te verwijderen, waardoor een patroon wordt gemaakt tijdens stap 3: ontwikkeling. Maar we kunnen deze stap nog steeds verkeerd uitvoeren. We willen het materiaal niet te lang in de oplossing laten zitten en als onze oplossing te sterk is, zal het het patroon dat we proberen te maken wegvreten. Dus, moeten we de timing en concentratie van de ontwikkelaaroplossing zeer zorgvuldig beheersen om goede resultaten te behalen.
Het belangrijkste voordeel van Wire bonding machine is de mogelijkheid om extreem kleine componenten af te beelden. Dit laat ons toe om zeer kleine, hoogwaardige onderdelen te produceren. De methode is ook erg voordelig voor massa-productie; het laat ons toe om veel onderdelen binnen een korte tijd te fabriceren. Dit is bijzonder cruciaal in sectoren met een extreem hoge vraag naar een bepaald type identieke onderdelen (zoals de elektronica-industrie).
Aan de andere kant zijn er ook enkele nadelen. De hoge kosten van mask aligner fotolitografie, zowel in termen van de machines als de materialen die voor dit proces worden gebruikt, is een van de grootste uitdagingen bij deze methode. De machines kunnen extreem duur zijn, en we hebben hoge kwaliteit grondstoffen nodig, die eveneens een fors bedrag kosten. Bovendien is het niet mogelijk om structuren kleiner dan bijvoorbeeld 10 nm te maken met deze methode. Dit is significant omdat we vaak streven naar het bouwen van steeds kleinere en krachtigere dingen. Daarnaast is het proces zeer gevoelig voor verontreiniging, waardoor het in een erg schone omgeving (meestal een cleanroom) moet plaatsvinden. Deze eis kan de zaken wat complexer en duurder maken.
In gebieden van elektronica tot geneeskunde rust mask aligner-fotolitografie op fundamenteel onderzoek en ontwikkeling. De toepassing van SU-8 is absoluut essentieel in de elektronica-industrie voor de productie van microelektronische apparaten zoals geïntegreerde schakelingen, sensoren en schermen. Het maken van deze structuren heeft verschillende speciale gereedschappen vereist die zijn ontworpen om dit werk uit te voeren, met goede voorbeelden hiervan de EVG(R) mask aligner en het EVG(R) wafer bonding systeem.
Bijvoorbeeld, in medisch onderzoek wordt fotolitografie gebruikt om microscopische kanalen te bouwen voor de analyse van lichaamsvochten; deze technologie maakt deel uit van wat een lab-on-a-chip wordt genoemd. Met behulp van deze technologie kunnen vloeistoffen snel en nauwkeurig worden geanalyseerd om meer inzicht te krijgen in de gezondheid van een patiënt. Het gebruik van een mask aligner in fotolitografie voor de productie van micro- en nanofluidische systemen is ook mogelijk. Indien correct, zouden deze systemen de precisie van medicijn doses voor patiënten verbeteren, waardoor de effectiviteit en veiligheid van behandelingen toeneemt.
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Alle rechten voorbehouden
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
