Სემიკონდუქტორული ინდუსტრია RIE PLASMA PR წაშლის მაშინა Photoresist Residual Removal , China Სემიკონდუქტორული ინდუსტრია RIE PLASMA PR წაშლის მაშინა Photoresist Residual Removal Manufacturers, Suppliers, Factory

Პროდუქტის აღწერა

RIE PLASMA Ფოტორეზისტის ამოღება

Სილიცონის კარბიდის გაჭრვილობა
Ზღვის შემდეგ ზედაპირის მოხუცვა
DESCUM
Მძიმის მასკი, გარე ამოღება
Სილიკონის oksიდი ან სილიკონის ნიტრიდის გამოჭრა
Ოპტიკური რეზისტის შორის მახასიათებლების შორის წაშლა
Ზედა რეზიდუალის წაშლა

Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal details

Პროცესი

Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Უპირატესობა:

Ძირითადი მონაწილეობა

Მაღალი გუმის ამოშლის სიჩქარე: მაღალი სიმკვრივის პლაზმა, სწრაფი გუმის ამოშლის სიჩქარე
Მუდმივობა: პლაზმის გადამუშავების შემდეგ, მაღალი განახლების მუდმივობა
Დამალული პლაზმა: დამალული პლაზმა, დაბალი იონური დაზიანება ვაფერზე
Გამოყენებითი პროგრამული უზრუნველყოფა: საკუთარი კვლევით და განვითარებით შექმნილი პროგრამული უზრუნველყოფა, ინტუიციური პროცესის ანიმაცია, დეტალური მონაცემები და ჩანაწერები
Ერთობი: პლაზმა შეძლებს დაჭერის საშუალებით წნევისა და ტემპერატურის კონტროლს
Საუსაფრთხო ფაქტორი: დაბალი პლაზმა შემცირებს პროდუქტის გამოსავლენის დაზიანებას.
Შემდეგ-ყიდვის სერვისი: სწრაფი პასუხი და საკმარისი ინვენტარი
Пыль კონტროლი: აკორდება მომხმარებლის მოთხოვნებს.
Ძირითადი ტექნოლოგია: მიახლოებით 40%-ია R&D გუნდის წევრები

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 ვაფერის ტრანსპორტირებლები
2. მაღალი კომპატიბილიტეტი: ვაფერის ზომის გადაწყვეტილების სურვილობა ათვლის მაღალ ხარჯსა და ამოხსნის ეფექტივობას
3. მაღალი სტაბილობის ვაკუუმური ტრანსფერის ჩემბერი:
Მოწყობილი და სტაბილი ვაკუუმური ტრანსფერის დიზაინი წარმოადგენს ბაზარზე მრავალწლეულ პრაქტიკას და კლიენტებმა ის კარგად აცნობილებენ.
Როტორის დიზაინი, მკაცრი სივრცე, საკმარისად შემცირებს PARTICAL-ის რისკს
4. ადამიანური პროგრამული უზრუნველყოფის ინტერფეისი:
Ინტუიტიური ადამიანური პროგრამული უზრუნველყოფის ინტერფეისი, მაशინის მუშაობის სტატუსის რეალური დროის მონიტორინგი;
Სრული ალარმი და დამარცხვევის ფუნქციები, რომლებიც არ აძლევენ მისამართებელ მოქმედებას.
Ძლიერი მონაცემთა ექსპორტის ფუნქცია, განსხვავებული პროცესური პარამეტრების ჩანაწერები და პროდუქციის ჩანაწერების ექსპორტი.

Რობოტი

1. ორი ვაფერის ერთჯერადი არჩევა და დასასარგებლად დიზაინი ა🚀ატასებს მაღალ პროდუქტიულობას
2. სივრცის ეფექტის გაუმჯობესება.

Გათბობის პლატო

1. მაღალ ზუსტობის ტემპერატურული კონტროლი ვეიფერის პლატოდან
Ვეიფერის გათბობის პლატო ჩანაწერიდან 250°C-მდე, ტემპერატურის კონტროლის ზუსტობა ±1°C
Ვეიფერის გათბობის პლატო პროფესიონალური ინსტრუმენტებით კალიბრირებულია, და უნიფორმობა. ±3°C-ში, რათა დაუზუსტოს გლიუს შემოკლება
2. ერთი ხუთის გამოყენება მოდულში წყალობითი ვეიფერის დამუშავება
Ერთი ხუთის გამოყენება მოდულში წყალობითი ვეიფერის დამუშავების დიზაინი;
Მოცული ძალის გამოსახელების დიზაინი თითოეული ვეიფერისთვის, რათა დაუზუსტოს თითოეული ვეიფერის წრეწირი PR შემოკლების ეფექტი;
UHP ეფექტის გაუზარდების პრემიზაზე, პროდუქტის საშუალების შემცირება. ძალიან საშუალების საშუალება
3. პროდუქციის საშუალება: ორი ნაწილის დიზაინის რეაქციის ხუთი, მაღალი პროდუქციის ეფექტი.

Სპეციფიკაცია

Პლაზმური წყარო			RF
Ენერგია	ICP	_
Ენერგია		BIAS	1000W(option)
Გამოყენების დიაპაზონი			4~8 ინჩი
Ერთი მუშაობის ნაჭრები			1
Გარემოს ზომები			850mmx900mmx1850mm
Სისტემის კონტროლი			PLC
Ავტომატიზაციის დონე			Სახელმძღვანელო

Აპარატურის შესაძლებლობა
Მუშაობის დრო/ხელმისაწვდომი დრო	≧95%
Საშუალო დრო გასუფთავების მდგომარეობაში （MTTC）	≦6 საათი
Საშუალო დრო რეპარაციისთვის（MTTR）	≦4 საათი
Საშუალო დრო შეცდომებს შორის（MTBF）	≧350 საათი
Საშუალო დრო მეგობრობის შორის（MTBA）	≧24 საათი
Საშუალო ქვეყნის მიერ გადაჭრილი (MWBB)	≦1 10,000 ქვეყნის შორის
Გამ Gaussian პლატოს კონტროლი	50-250°

Ტესტის ანგარიში

Semiconductor industry RIE PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Ქარხნის ხედი

Შეფუთვა და მიწოდება

Კომპანიის პროფილი

Ჩვენ გვაქვს 16 წლის გამოცდილება აპარატურის გაყიდვაში. შეგვიძლია გექვენით ერთ-გადამისამართებლად სამწუხარო წინა და შემდეგი საფასური ხაზის აპარატურის ამოხსნა ჩინეთიდან!