Ორმაგი სამიზნის მაგნეტრონული და აორთქლების კომპოზიტური დაფარვის ინსტრუმენტი

Ეს აღჭურვილობა ძირითადად შედგება ნეიროსტანდული ფოლადის ვაკუუმური კორპუსისგან, მაგნეტრონული სპუტერინგის მიზნისგან, აორთქლების საფარების მოწყობილობისგან, ნიმუშების დასადებად სანიმუშო მაგიდისგან, ვაკუუმური პომპის ერთეულისгან, ვაკუუმის გაზომვის მანომეტრისгან, ჰაერის შესასვლელი სისტემისгან და მართვის სისტემისგან. აღჭურვილობის ძირითადი ერთეული მართვის ეკრანით (ტაჩსკრინით) მართვად და ტემპერატურის რეგულირების მანომეტრით კონტროლდება. მისი ციფრული პარამეტრების ინტერფეისი და ავტომატიზებული მუშაობა მომხმარებლებს უზრუნველყოფს გამორჩეული კვლევისა და განვითარების პლატფორმით. ვაკუუმური კორპუსი დაკომპლექტებულია ქვედა მიზნით, ხოლო სანიმუშო მაგიდა გათბობის და ბრუნვის ფუნქციებს შეიცავს, რაც საფარის ეფექტს უფრო ერთგვაროვნად ხდის. აღჭურვილობის ვაკუუმის მიღების სისტემა ორსტუფენიანი ვაკუუმური პომპების ჯგუფით არის შემადგენლობული. პირველადი სტუფენის პომპი არის სიჩქარის მაღალი მექანიკური პომპი, რომელიც ეფექტურად ამცირებს ნორმალური წნევიდან დაბალ ვაკუუმამდე მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებლად მოსახერხებ...... დროს. მთავარი პომპი არის ტურბო-მოლეკულური პომპი მაღალი გამოძაფების სიჩქარით და უფრო სწრაფი ვაკუუმის მიღების სიჩქარით. მთლიანად აღჭურვილობის ვაკუუმის მიღების სისტემა სუფთა და სწრაფია.

Გამოყენების სფერო:

Შეიძლება გამოყენებულ იქნას ერთ- ან მრავალფენიანი ფეროელექტრული თინკი ფილმების, გამტარი ფილმების, შენაირების ფილმების, ნახევარგამტარი ფილმების, კერამიკული ფილმების, დიელექტრული ფილმების, ოპტიკური ფილმების დამზადების დროს და ა.შ.