EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Სამუშაო მაგიდის ტიპის მიზნით ქვევით მიმართული მაგნეტრონული საფარველის მოწყობილობა
შესავალება: ეს მოწყობილობა არის მაგნეტრონული დაფარვის ხელსაწყო ერთი მიზნის მქონე მაგიდის ტიპის. მოწყობილობა მინიატიურია, რაც მის გარეგნულ სახეს მაგიდის დონეზე შემოაფარგლავს და მონტაჟის ადგილის მოთხოვნებს მნიშვნელოვნად ამცირებს. მოწყობილობა დაკომპლექტებულია მუდმივი დენის მომარაგების წყაროთი, რომელიც გამოიყენება ლითონის მასალების სპუტერინგისთვის და გამოირჩევა სიჩქარით და დაბალი ტემპერატურის მატარებლობით. ვაკუუმური კორპუსი მთლიანად აღჭურვილია ქვედა მიზნის დიზაინით, რაც უზრუნველყოფს კარგ სპუტერინგს, ნაკლებ ნარევებს და ნიმუშის მაქსიმალურ დაცვას.
