ICP სუხარი პლაზმური ფოტორეზისტის მოშორებლი , China ICP სუხარი პლაზმური ფოტორეზისტის მოშორებლი Manufacturers, Suppliers, Factory

ICP სუხარი პლაზმური ფოტორეზისტის მოშორებლი

ICP სუხარი პლაზმური ფოტორეზისტის მოშორებლი ძირითადად გამოიყენება პოლიმერების მოშორების, აშინგის, დესკამინგის, იონური იმპლანტაციის შემდგომი ფოტორეზისტის მოშორების და ზედაპირის ნარჩენების გასუფთავების მიზნით. MDST3100 კამერა მოათავსებს 4–8 ინჩიან ნიმუშებს ერთი ფირფიტის დამუშავების შესაძლებლობით, ხოლო MDST3200 კამერა მოათავსებს 4–8 ინჩიან ნიმუშებს ერთდროულად ორი ფირფიტის შესაძლებლობით.

Აღჭურვილობის გარეგნობა უწყვეტად არის განახლებისა და რეგულირების პროცესში; ფაქტობრივად მიწოდებული პროდუქტი არის გადაწყვეტილების საბოლოო საშუალება.

头图4.jpg

工艺流程.png(5c78296a74).jpg 去除光刻胶去胶机 (5)(130d03181e).jpg

Მოხება

Პოლიმერის ამოღება

DESCUM

Მკაცრი ფილმის ფენის შუშის სუფთავება

Იონური იმპლანტაციის შემდეგ ფოტორეზისტის მოშორება

Ზედა რეზიდუალის წაშლა

BAW/SAW პროცესში ფოტორეზისტის მოშორება

Ანტირეფლექტორული გრაფიკული ფილმის ფენის შუშის სუფთავება

Ზღვის შემდეგ ზედაპირის მოხუცვა

Უპირატესობები:

Პლაზმის იონიზაციისა და დეკომპოზიციის მაღალი ხარისხი

Პლაზმური დამუშავების შემდეგ მეორედ მიღების ხარისხი მაღალია

Შუშის ეტჩინგი, რომელსაც არ ახდენს დაბინძურების წყარო

Წნევისა და ტემპერატურის რეგულირება ბატერფლაი ვალვების საშუალებით

Შეიძლება შეინარჩუნოს პლაზმა მაღალი წნევით

Მაღალი ძაბვის წყაროსა და იონების გენერატორს შორის გამოყოფა

Მიკროტალღური შეერთება და მაგნიტური წრედი ერთმანეთს ესწრება

Შეიძლება დააკმაყოფილოს მომხმარებლის მოთხოვნები

Დამუშავების დროს დაბალი ტემპერატურა

Სწრაფი რეაგირების სიჩქარე და მოკლე რეაგირების დრო

Test data 2.jpg Test data 1.jpg Test data 3.jpg

Მოდელი		MDST3100	MDST3200
Პლაზმური წყარო		RF	RF
Ძალა	ICP	1000W	1000W
	BIAS	NA	NA
Გამოყენების სფერო		4–8 დუйმი	4–8 დუйმი
Ერთდროულად დამუშავებული ვეფერების რაოდენობა		1	2
Საერთო ზომები		1300×1190×1847 მმ	1300×1650×1850 მმ
Სისტემის კონტროლი		Ინდუსტრიული კონტროლის სისტემა
ავტომატიზაციის ხარისხი		Ავტომატური