Pendahuluan:
Peralatan pelapisan dengan teknik sputtering magnetron adalah instrumen pelapisan laboratorium khusus yang dikembangkan oleh perusahaan kami. Peralatan ini dapat dilengkapi dengan catu daya DC dan catu daya RF. Kisaran daya berkisar antara 500 W hingga 1000 W. Dibandingkan dengan teknik sputtering plasma konvensional, sputtering magnetron memiliki keunggulan berupa energi tinggi, kecepatan tinggi, laju pengendapan tinggi, serta kenaikan suhu sampel yang rendah. Target magnetron dilengkapi dengan lapisan pendingin air. Pendingin air mampu secara efektif menghilangkan panas dan mencegah akumulasi panas di permukaan target, sehingga proses pelapisan magnetron dapat beroperasi secara stabil dalam jangka waktu lama. Berkat desain yang kompak, keseimbangan antara volume dan kinerja berhasil diwujudkan, tampilan peralatan estetis, serta fungsinya lengkap. Seluruh mesin dikendalikan melalui layar sentuh dan dilengkapi program pelapisan satu tombol terintegrasi, sehingga pengoperasiannya mudah dan menjadikan peralatan ini pilihan ideal untuk persiapan film tipis di laboratorium.
Aplikasi:
Dapat digunakan untuk mempersiapkan film tipis ferroelektrik satu lapisan atau multilapisan, film konduktif, film paduan, film semikonduktor, film keramik, film dielektrik, film optik, dll.