Pendahuluan: Instrumen pelapisan sputtering magnetron dua-target adalah instrumen pelapisan khusus laboratorium dengan dua posisi target yang dikembangkan oleh perusahaan kami. Peralatan ini dilengkapi dengan catu daya DC dan catu daya frekuensi radio. Dibandingkan dengan sputtering plasma biasa, sputtering magnetron memiliki keunggulan berupa energi tinggi dan kecepatan tinggi, laju pelapisan tinggi, serta merupakan jenis sputtering berkecepatan tinggi bersuhu rendah yang khas. Target magnetron dilengkapi dengan lapisan pendingin air. Pendingin air mampu secara efektif menghilangkan panas dan mencegah akumulasi panas di permukaan target, sehingga pelapisan magnetron dapat beroperasi secara stabil dalam jangka waktu lama. Tahap sampel pada model ini menggunakan desain bolak-balik, dengan batang dorong kopling magnetik di sisi kiri yang dapat mendorong tahap sampel ke kiri dan ke kanan. Seluruh mesin dikendalikan melalui layar sentuh, dilengkapi program pelapisan satu-tombol bawaan, pengoperasian sederhana dan mudah, serta merupakan peralatan ideal untuk persiapan film tipis di laboratorium.
Aplikasi: Dapat digunakan untuk mempersiapkan film tipis ferroelektrik tunggal atau multilayer, film konduktif, film paduan, film semikonduktor, film keramik, film dielektrik, film optik, dll.
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA











