Instrumen Pelapisan Magnetron Target Tunggal dengan Sistem Rotasi Planet
Pendahuluan: Peralatan ini adalah instrumen pelapisan magnetron planetary meja tunggal. Bagian bawah ruang vakum berstruktur baja tahan karat, sedangkan bagian atas terbuat dari kuarsa kemurnian tinggi. Desainnya mempertimbangkan baik kinerja vakum maupun fungsi untuk menampung tahapan sampel yang kompleks. Bentuk fisik peralatan ini berukuran meja (desktop), sehingga secara signifikan mengurangi kebutuhan ruang pemasangan. Peralatan ini dilengkapi catu daya DC dan dapat digunakan untuk proses sputtering logam serta bahan konduktif lainnya. Sistem vakum peralatan ini menggunakan kelompok pompa molekuler turbo, yang memiliki kecepatan pemompaan cepat, tekanan vakum akhir sangat rendah, serta kinerja vakum yang sangat baik. Peralatan ini memiliki struktur kompak, fungsi lengkap, dan mudah dioperasikan. Peralatan ini sangat cocok untuk berbagai uji pelapisan.
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA











