Sistem Etching Plasma Induktif Terkait (ICP) Peralatan Semikonduktor , China Sistem Etching Plasma Induktif Terkait (ICP) Peralatan Semikonduktor Manufacturers, Suppliers, Factory

Deskripsi Produk

Sistem pengikisan plasma ikatan induktif (icp)

Teknologi reactive ion etching yang terkopel induktif adalah jenis RIE. Teknologi ini mencapai pemisahan antara densitas ion plasma dan energi ion dengan mengendalikan fluks ion secara independen, sehingga meningkatkan akurasi dan fleksibilitas proses etching.

Produk seri reactive ion etching (ICP-RIE) berdensitas tinggi didasarkan pada teknologi plasma kopling induktif dan ditujukan untuk kebutuhan etsa halus serta etsa semikonduktor majemuk. Produk ini memiliki stabilitas proses dan pengulangan proses yang sangat baik, serta cocok untuk aplikasi pada semikonduktor silikon, optoelektronik, informasi dan komunikasi, perangkat daya, serta perangkat microwave.

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory

Bahan yang Berlaku:

1. Bahan berbasis silikon: silikon (Si), silikon dioksida (SiO2), silikon nitrida (SiNx), silikon karbida (SiC)...

2. Bahan III-V: indium fosfida (InP), gallium arsenide (GaAs), gallium nitrida (GaN)...

3. Bahan II-VI: kadmium telurida (CdTe)...

4. Bahan magnetik/bahan paduan

5. Bahan logam: aluminium (Al), emas (Au), tungsten (W), titanium (Ti), tantalum (Ta)...

6. Bahan organik: photoresist (PR), polimer organik (PMMA/HDMS), lapisan tipis organik...

7. Bahan ferroelektrik/fotoelektrik: litium niobat (LiNbO3)...

8. Bahan dielektrik: safir (Al2O3), kuarsa...

Aplikasi terkait:

1. Pengukiran kisi: digunakan untuk tampilan 3D, perangkat mikro-optik, optoelektronik, dll.;

2. Pengukiran semikonduktor majemuk: digunakan untuk LED, laser, komunikasi optik, dll.;

3. Substrat safir berpola (PSS);

4. Pengukiran litium niobat (LiNO3): detektor, optoelektronik;

Hasil proses

Pengikisan Kuarsa / silikon / grating

Menggunakan mask BR untuk mengikis bahan kuarsa atau silikon, pola larik grating memiliki garis ter tipis hingga 300nm dan kemiringan dinding samping pola mendekati > 89° , yang dapat diterapkan pada tampilan 3D, perangkat optik mikro, komunikasi optoelektronik, dll

Pengikisan senyawa / semikonduktor

Pengendalian yang akurat terhadap suhu permukaan sampel dapat dengan baik mengontrol morfologi etalase berbasis GaN, GaAs, InP, dan bahan logam. Cocok untuk perangkat lED biru, laser, komunikasi optik, dan aplikasi lainnya.

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment manufacture

Pengetchan bahan berbasis silikon

cocok untuk etalase bahan berbasis silikon seperti Si, SiO2, dan SiNx. Dapat mewujudkan etalase garis silikon di atas 50nm dan etalase lubang dalam silikon di bawah 100um

Spesifikasi

Konfigurasi proyek dan diagram struktur mesin

Item	MD150S-ICP	MD200S-ICP	MD150CS-ICP	MD200CS-ICP	MD300C-ICP
Ukuran Produk	≤6 inci	≤8 inci	≤6 inci	≤8 inci	Kustom≥12inci
Sumber daya SRF	0~1000W/2000W/3000W/5000W Adjustable, otomatis cocok\,13.56MHz/27MHz
Sumber daya BRF	0~300W/0~500W/0~1000W Adjustable, otomatis cocok,2MHz/13.56MHz
Pompa Molekuler	Tidak korosif : 600 /1300 (L/s)/Kustom			Anti-korosi:600 /1300 (L./s)/Kustom		600/1300(L/s) /Kustom
Foreline pompa	Pompa mekanis \/ pompa kering			Pompa kering anti korosi		Pompa mekanis \/ pompa kering
Pompa pra-evakuasi	Pompa mekanis \/ pompa kering			Pompa mekanis \/ pompa kering
Tekanan proses	Tekanan tidak terkendali\/0-0.1\/1\/10Torr tekanan terkendali
Jenis gas	H2\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/NH3\/C2F6\/Kustom (Hingga 12 saluran, tanpa gas korosif & toksik)			H2\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/CHF3\/ C4F8\/NF3\/NH3\/C2F6\/Cl2\/BCl3\/HBr\/ Kustom (Hingga 12 saluran)
Rentang gas	0~5sccm\/50sccm\/100sccm\/200sccm\/300sccm\/500sccm\/1000sccm\/Kustom
LoadLock	Ya/Tidak			Ya
Kontrol tem sampel	10°C~Ruangan/~ -30°C~150°C ~/Kustom			-30°C~200°C~/Kustom
Pendinginan helium belakang	Ya/Tidak			Ya
Lapisan rongga proses	Ya/Tidak			Ya
Kontrol tem dinding rongga	Tidak/Ruangan ~-60/120°C			Ruangan~60/120°C
Sistem Kontrol	Otomatis/kustom
Bahan pengikisan	Berdasarkan silikon: Si/SiO2/ SiNx/ SiC..... Bahan organik: PR/Organik lapisan......			Berdasarkan silikon: Si/SiO2/SiNx/SiC III-V: InP/GaAs/GaN...... IV-IV: SiC II-VI: CdTe...... Bahan magnetik/ bahan paduan Bahan logam: Ni/Cr/Al/Cu/Au... Bahan organik: PR/Film organik...... Etching dalam silikon

Packing & Pengiriman

Profil Perusahaan

Kami memiliki 16 tahun pengalaman dalam penjualan peralatan. Kami dapat memberikan solusi profesional satu atap untuk Garis Paket Front-end dan Back-end Semikonduktor dari Tiongkok.

Beranda

Tentang Kami

Peralatan MH

Solusi

Pengguna Luar Negeri

Video

Hubungi Kami