Menonjolkan
Pendahuluan: Peralatan ini adalah instrumen pelapisan magnetron ber-target ganda. Peralatan ini dilengkapi dengan dua target magnetron dan dua set catu daya DC. Peralatan ini dapat digunakan untuk melapiskan film logam konduktif berlapis banyak. Di samping itu, peralatan ini terdiri dari dua bagian: ruang utama dan ruang transisi. Ruang transisi dilengkapi dengan batang dorong magnetik, dan katup gerbang vakum dipasang di antara kedua ruang tersebut. Pengguna dapat memuat sampel di ruang transisi serta melakukan pra-vakum saat proses sputtering berlangsung di ruang utama. Setelah proses sputtering di ruang utama selesai, sampel dapat didorong ke tahap sampel di ruang utama melalui batang dorong magnetik. Desain ini dapat mengurangi jumlah kali ruang utama dikosongkan dan diisi udara kembali, sehingga tidak hanya secara efektif menghemat waktu, tetapi juga menjamin vakum lokal yang lebih baik serta secara efektif meningkatkan kualitas pelapisan.
Aplikasi: Dapat digunakan untuk mempersiapkan film tipis ferroelektrik tunggal atau multilayer, film konduktif, film paduan, film semikonduktor, film keramik, film dielektrik, film optik, dll.