Pendahuluan:
Peralatan ini adalah instrumen pelapisan magnetron dengan dua target. Peralatan ini dilengkapi dua target magnetron dan dua set catu daya DC. Peralatan ini dapat digunakan untuk melapisi film logam konduktif berlapis banyak. Di saat yang sama, peralatan ini terdiri dari dua bagian: ruang utama dan ruang transisi. Ruang transisi dilengkapi batang dorong magnetik, serta katup gerbang vakum dipasang di antara kedua ruang tersebut. Pengguna dapat memuat sampel di ruang transisi dan melakukan pra-vakum sambil melakukan proses sputtering di ruang utama. Setelah proses sputtering di ruang utama selesai, sampel dapat didorong ke tahap sampel di ruang utama melalui batang dorong magnetik. Desain ini dapat mengurangi jumlah kali ruang utama dikosongkan dan diisi udara kembali, sehingga tidak hanya secara efektif menghemat waktu, tetapi juga menjamin vakum lokal yang lebih baik serta secara efektif meningkatkan kualitas pelapisan.
Penerapan:
Dapat digunakan untuk mempersiapkan film tipis ferroelektrik satu lapisan atau multilapisan, film konduktif, film paduan, film semikonduktor, film keramik, film dielektrik, film optik, dll.