Menonjolkan
Pendahuluan:
Pelapis magnetron sputtering dua-target adalah pelapis khusus laboratorium yang dikembangkan oleh perusahaan kami. Peralatan ini dapat dilengkapi dengan catu daya DC dan catu daya RF, dengan daya berkisar antara 500 W hingga 1000 W. Dibandingkan dengan sputtering plasma biasa, sputtering magnetron memiliki keunggulan berupa energi tinggi dan kecepatan tinggi, laju pelapisan tinggi, serta kenaikan suhu sampel yang rendah. Ini merupakan contoh khas sputtering berkecepatan tinggi dan bersuhu rendah. Target magnetron dilengkapi lapisan pendingin air di antaranya. Pendingin air mampu secara efektif menghilangkan panas dan mencegah akumulasi panas pada permukaan target, sehingga proses pelapisan magnetron dapat beroperasi secara stabil dalam jangka waktu lama. Peralatan ini dirancang secara kompak guna mencapai keseimbangan antara volume dan kinerja, dengan tampilan estetis dan fungsi yang lengkap. Seluruh mesin dikendalikan melalui layar sentuh, dilengkapi program pelapisan satu-tombol bawaan, sehingga pengoperasiannya sederhana dan mudah. Peralatan ini merupakan pilihan ideal untuk persiapan film tipis di laboratorium.
Aplikasi: Dapat digunakan untuk mempersiapkan film tipis ferroelektrik tunggal atau multilayer, film konduktif, film paduan, film semikonduktor, film keramik, film dielektrik, film optik, dll.