Pendahuluan:
Peralatan ini telah diperkecil ukurannya, dengan mempertahankan rongga stainless steel bertekanan vakum tinggi sambil menyederhanakan mekanisme lainnya, sehingga penampilan peralatan dibatasi pada tingkat desktop dan kebutuhan lokasi pemasangan berkurang secara signifikan. Peralatan ini dilengkapi dengan catu daya DC dan catu daya RF. Target DC dapat digunakan untuk penyemprotan (sputtering) logam dan bahan konduktif lainnya, sedangkan catu daya RF dapat digunakan untuk penyemprotan berbagai bahan non-logam serta oksida logam. Sistem vakum peralatan ini menggunakan pompa vakum impor penuh dengan kecepatan pemompaan cepat, derajat vakum akhir tinggi, serta kinerja vakum yang sangat baik. Peralatan ini memiliki struktur kompak, fungsi lengkap, dan mudah digunakan, sehingga sangat cocok untuk berbagai pengujian pelapisan.
Penerapan:
Peralatan ini dapat digunakan untuk persiapan film tipis logam, bidang elektronik, bidang optik, keramik khusus, dan sebagainya. Peralatan ini juga dapat digunakan untuk persiapan sampel SEM di laboratorium.