Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
Minta Penawaran

Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Beranda
Tentang Kami
Peralatan MH
Solusi
Pengguna Luar Negeri
Video
Hubungi Kami
Beranda> PR removal RTP USC
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist
  • Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist

Membersihkan Wafer Semikonduktor setelah Etching ICP Mesin Plasma Eksperimental Menghapus Photoresist

Dapatkan Penawaran Gratis
Deskripsi Produk

Mesin Penghapusan Photoresist Plasma ICP Eksperimental

Penghapusan Polymer, etching oksida silikon atau karbida silikon, pembersihan permukaan setelah etching
Pengangkutan Polymer ASHING Pengangkutan DESCUM Kering Pengangkutan lapisan masker keras Pengangkutan photoresist setelah implantasi ion Pengangkutan resistansi optik di antara media Pengangkutan photoresist dalam proses BAW/SAW Pembersihan kering lapisan film grafis anti-reflektif Etching oksida silikon atau nitrida silikon Pengangkutan sisa permukaan Pembersihan permukaan setelah etching Etching karbida silikon
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Spesifikasi
Sumber plasma
RF+BIAS
Daya
1000W
1000W
600W
600W
Ruangan Penerapan
4-8 inci
Jumlah irisan pengolahan tunggal
satu
Dimensi penampilan
1140mm x 1050mm x 1620mm
Kontrol sistem
Sistem kontrol industri
Tingkat Otomatisasi
Manual
Pabrik
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Packing & Pengiriman
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Profil Perusahaan
16 tahun pengalaman dalam ekspor peralatan! Kami dapat menyediakan solusi satu atap untuk Proses dan Peralatan Front End Semikonduktor bagi Anda!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Produk Lainnya

Pertanyaan

Hak Cipta © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Kebijakan Privasi

Pertanyaan Email WhatsApp WeChat
Atas
×

Hubungi Kami