Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
Hanki tarjous

Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Etusivu
Tietoa meistä
MH-Laitteisto
Ratkaisu
Ulkomaille Käyttäjät
Video
Ota Yhteyttä
Etusivu> PR-poisto RTP USC
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite
  • Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite

Puhdas semikonduktoritauko jälkeen ICP-kokeellinen plasma fotoresisti poisto laite

Hanki ilmainen tarjous
Tuotekuvaus

ICP Kokeellinen plasma fotoresiisin poisto kone

Polymerin poisto, siliciaoksidin tai siliciakarbidiin etchedin, pinnan puhdistus etchedin jälkeen
ASHING Polymeerin poisto DESCUM Kuiva poisto tiheyden peiteluokasta Valokuvausvastuksen poisto joniviestinnän jälkeen Optisen vastusteen poisto median välissä Valokuvausvastuksen poisto BAW/SAW-prosessissa Kuiva puhdistus anti-reflectiiviselle graafilliselle elokuvatasolle Silikonioksidi tai silikoninitriidi-korostaminen Pintaan liittyvien jäämien poisto Pintapuhdistus korostamisen jälkeen Silikonekarbidin korostaminen
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
MITTATIETOE
PLASMA lähde
RF+BIAS
Teho
1000W
1000W
600 W:n
600 W:n
Soveltamisala
4-8 tuumaa
Yksittäinen käsittelylevyjen määrä
yksi
Ulkomitat
1140mm x 1050mm x 1620mm
Järjestelmän hallinta
Teollinen ohjausjärjestelmä
Automaatiotaso
Käyttöohje
Tehtaassa
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Pakkaus & Toimitus
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Yrityksen profiili
16 vuoden kokemus laitteiden vientiä! Voimme tarjota sinulle yhdenmuotoisen Semijohtimien Etuprosessien ja Laitteiden ratkaisun!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Lisää tuotteita

Pyynnöt

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Kaikki oikeudet pidätetään

Tietosuojakäytäntö

Pyynnöt Email Whatsapp YLA
×

OTAA YHTEYTTÄ