Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Saada pakkumine

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Avaleht
Meist
MH Seadistus
Lahendus
Välismaalased Kasutajad
Video
Kontakt Meega
Kodu> PR eemaldamine RTP USC
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist
  • Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist

Puhastatud haljutusplaat pärast ICP eksperimentaalsete plasma fotoresisti eemaldamise masina kasutamist

Saada Tasuta Hindamiskinnitus
Toote kirjeldus

ICP eksperimentaalne plasma fotorezsisti eemaldamise masin

Polümeeride eemaldamine, siliciumdioksiidi või siliciumkarbidi etseerimine, pindade puhastamine etseerimise järel
POLYMER Eemaldamine DESCUM Kuiv eemaldamine pärast raskete maskekihi eemaldamist Fototõkkest eemaldamine ionide imploosiooni järel Optilise tõkke eemaldamine meediumide vahel BAW/SAW protsessi fototõkke eemaldamine Kuiv puhastamine anti-reflektiivse graafilise kihi tasandis Siliciuksidioksidi või siliciumnitriidi etchimine Pindlikuu jäägite eemaldamine Etchimise järgne puhastamine Siliciukarbidietching
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Spetsifikatsioon
Plasmaallikas
RF+BIAS
Võimsus
1000W
1000W
600 W
600 W
Rakenduskohad
4-8 tuumet
Ühe töötlemise lõigete arv
üks
Välimõõdud
1140mm x 1050mm x 1620mm
Süsteemi juhtimine
Tööstuslik juhtimissüsteem
Automaatsete toimingute tasand
Käsiraamat
Tootmine
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Pakendamine ja kohaletoimetamine
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Ettevõtte profiil
16 aastat kogemust varustuse eksportimises! Me võime pakkuda teile ühepealse Semikoonide Ettevalmistamise Protsesside ja Varustuse lahendust!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Rohkem tooteid

Päring

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Kõik õigused kaitstud

Privaatsuspoliitika

Päring Email Whatsapp PEAL
×

Oleme ühenduses