Giới thiệu:
Thiết bị này là một thiết bị phủ bằng magnetron hai mục tiêu. Thiết bị được trang bị hai bia magnetron và hai bộ nguồn điện một chiều (DC). Thiết bị có thể được sử dụng để phủ các màng kim loại dẫn điện đa lớp. Đồng thời, thiết bị gồm hai phần: buồng chính và buồng chuyển tiếp. Buồng chuyển tiếp được trang bị một thanh đẩy từ tính, và một van cổng chân không được lắp đặt giữa hai buồng. Người dùng có thể đưa mẫu vào buồng chuyển tiếp và thực hiện hút chân không sơ bộ trong khi tiến hành phun xạ trong buồng chính. Sau khi quá trình phun xạ trong buồng chính hoàn tất, mẫu có thể được đẩy vào bàn kẹp mẫu của buồng chính thông qua thanh đẩy từ tính. Thiết kế này giúp giảm số lần hút chân không và xả khí của buồng chính, nhờ đó không chỉ tiết kiệm thời gian hiệu quả mà còn đảm bảo độ chân không cục bộ tốt hơn, từ đó nâng cao chất lượng lớp phủ một cách đáng kể.
Ứng dụng:
Thiết bị có thể được sử dụng để chế tạo các màng mỏng ferroelectric đơn lớp hoặc đa lớp, các màng dẫn điện, các màng hợp kim, màng bán dẫn, màng gốm, màng điện môi, màng quang học, v.v.