Làm nổi bật
Giới thiệu:
Máy phủ bằng phương pháp phún xạ magnetron hai mục tiêu là một thiết bị phủ chuyên dụng cho phòng thí nghiệm do công ty chúng tôi phát triển. Thiết bị có thể được trang bị nguồn điện một chiều (DC) và nguồn điện tần số vô tuyến (RF), với công suất dao động từ 500 W đến 1000 W. So với phương pháp phún xạ plasma thông thường, phương pháp phún xạ magnetron sở hữu những ưu điểm như năng lượng cao và tốc độ cao, tốc độ phủ nhanh, đồng thời nhiệt độ mẫu tăng ít. Đây là một dạng điển hình của kỹ thuật phún xạ tốc độ cao và nhiệt độ thấp. Bia magnetron được trang bị lớp đệm làm mát bằng nước. Bộ làm mát nước có khả năng tản nhiệt hiệu quả, tránh tích tụ nhiệt trên bề mặt bia, nhờ đó quá trình phủ magnetron có thể vận hành ổn định trong thời gian dài. Thiết bị được thiết kế gọn gàng nhằm đạt được sự cân bằng giữa kích thước và hiệu năng, với ngoại hình đẹp mắt và chức năng toàn diện. Toàn bộ máy được điều khiển qua màn hình cảm ứng, tích hợp sẵn chương trình phủ một chạm, thao tác đơn giản và dễ sử dụng. Đây là thiết bị lý tưởng để chế tạo màng mỏng trong phòng thí nghiệm.
Ứng dụng: Có thể được sử dụng để chế tạo màng mỏng ferroelectric đơn lớp hoặc đa lớp, màng dẫn điện, màng hợp kim, màng bán dẫn, màng gốm, màng điện môi, màng quang học, v.v.