Гуангцоу Миндер-Хигтек Цо, Лтд.

Početna Strana
O Nama
МХ опрема
Решење
Изванморски корисници
Video
Контактирајте нас
Домаћи ПВД ЦВД АЛД РИЕ ИЦП ЕБЕАМ
  • Уређај за ЦВД за графенове и угљенске нанотрубе
  • Уређај за ЦВД за графенове и угљенске нанотрубе
  • Уређај за ЦВД за графенове и угљенске нанотрубе
  • Уређај за ЦВД за графенове и угљенске нанотрубе

Уређај за ЦВД за графенове и угљенске нанотрубе

Опис производа

Уређај за ЦВД за графенове и угљенске нанотрубе

Опрема се углавном користи за процесно премазивање графена и нано материјала; дифузија, оксидација и одгајање поликристалног силицијума и силицијум карбида.
CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details
Спецификација
структурни стил
Улазници за уношење у углове
Прилагодити се величини вафера
2-8″
Метода испоруке и повлачења вафера
Автоматски кацкац за гушење и вучење кварца у кацкачи, у комбинацији са ручним узимањем и ослобађањем чипова.
максимална температура
1050℃
радна температура
400 °C ~ 850 °C континуирано подешавајући
Стабилност температуре у једној тачки
400°C до 850°C ≤ ± 0,5°C/24h
Ограничени вакуум система
Боље од 1Па
брзина пумпања
Времен пумпања за ограничење вакуума < 15 минута
Растојање радног притиска
5Па до 1 × 105Pa континуирано подешавајући
Снабдевање струјом
3 фазе 5 жица 380V±10%,50Hz
вода за хлађење
2 ~ 4Кгф/см2,8Л/мин;
Pakovanje i dostava
CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory
CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

Истрага

Истрага Email Ватсап WeChat
Vrh
×

Stupite u vezu s nama