Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
Pridobi ponudbo

Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Domov
O nas
Oprema MH
Rešitev
Uporabniki Iz Tuja
Video
Kontaktirajte nas
Domov> Odstranitev PR RTP USC
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista
  • Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista

Čist semikonduktorski taler po izkrojovanju ICP Eksperimentalno plazmensko odstranjevanje fotoresista

Pridobite brezplačen predračun
Opis produkta

ICP Poskusna plazmenska mašina za odstranjevanje fotoresista

Odstranjevanje polimerov, etčenje kisikovega silicija ali karbida silicija, površinsko čiščenje po etčenju
Odstranitev polimerov ASHING Odstranitev DESCUM Suha odstranitev trde glezele Photoresistance odstranitev po jonski implantaciji Odstranitev optične upornosti med medijema Odstranitev photoresistance v procesu BAW/SAW Suho čiščenje anti-refleksne filmske plasti Litosteksi ali sipci nitrida Silicijova oksida ali sipci nitrida čiščenje Odstranitev površinskih ostankov Površinsko čiščenje po etčenju Sipci karbida etčenje
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Specificacija
PLASMA vir
RF+BIAS
Moč
1000W
1000W
600 W
600 W
Namena uporabe
4-8 palcev
Število obdelanih pladenkov
ena
Izgledne razmere
1140mm x 1050mm x 1620mm
Kontrola sistema
Industrijski nadzorni sistem
Stopnja avtomatizacije
Navodila
Delavnici
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Pakiranje & Dostava
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Podjetni profil
16 let izkušenj s izvozom opreme! Lahko vam ponudimo kompleksno rešitev za procese in opremo v polprevodniškem delu!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Več izdelkov

Povpraševanje

Avtorske pravice © Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd. Vse pravice pridržane

Politika zasebnosti

Povpraševanje Email Whatsapp VRH
×

Opišite se