Sestavljena je iz napajalnika za ione, vakuumskih sistemov, sistema za polnjenje z zrakom, avtomatskega krmilnega sistema in drugih delov. Osnovno delovno načelo je, da se v vakuumskem stanju plazma v nadzorovanem in kakovostno določenem načinu ionizira plin. Z vakuumsko črpalko se delovna komora izprazni do vakuuma 10–40 Pa, nato pa se plin pod vplivom visokofrekvenčnega generatorja ionizira in tvori plazmo (četrto agregatno stanje snovi), ki se razlikuje po zelo enakomerni svetleči razbremenski luči; glede na uporabljen plin oddaja vidno barvno svetlobo od modre do temnovijolične. Temperatura obdelave materiala je blizu sobne temperature. Ti zelo reaktivni delci medsebojno delujejo s predelano površino, kar omogoča različne spremembe površine, kot so povečana površinska hidrofilnost, odpornost proti vodi, nizka trenja, visoka stopnja čiščenja, aktivacija in etširanje.
Prednosti plazemske obdelave: 1. Tehnologija za varovanje okolja: proces plazemskega delovanja je koherentna plin-trdno-fazna reakcija, ki ne porablja vodnih virov, ne zahteva dodajanja kemikalij in ne onesnažuje okolja. 2. Univerzalnost: ne glede na vrsto podlage, ki jo je treba obdelati, se lahko obdelajo različne snovi, kot so kovine, polprevodniki, oksidi in večina polimernih materialov. 3. Nizka temperatura: blizu sobne temperature, zlasti primerna za polimerne materiale; omogoča daljši čas shranjevanja in višjo površinsko napetost kot metode koronskega in plamenskega obdelovanja. 4. Močna funkcionalnost: vključuje le površinsko plast polimernega materiala (10–1000 Å), s čimer materialu dodeli eno ali več novih funkcij, hkrati pa ohrani njegove lastne lastnosti. 5. Nizki stroški: naprava je preprosta, enostavna za upravljanje in vzdrževanje ter jo je mogoče obratovati neprekinjeno. Pogosto nekaj steklenic plina nadomesti tisoče kilogramov čistilnega tekočine, zato so stroški čiščenja znatno nižji kot pri mokrem čiščenju. 6. Nadzorljiv proces v celotnem postopku
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA



























