Sistem de gravare cu ioni reactivi (RlE) , China Sistem de gravare cu ioni reactivi (RlE) Manufacturers, Suppliers, Factory

Sistem de gravare cu ioni reactivi (RlE)

Aplicații:

1. Ușurarea materialelor bazate pe siliciu, modele nanoimprimare, modele în matrice și modele lentile;
2. Etalaj la temperatură a indului fosfidat (InP), etalaj modelat al dispozitivelor bazate pe InP în comunicarea optică, inclusiv structuri de conducte, structuri de cavitate rezonantă și structuri de creastă;
3. Etalaj al materialelor SiC, potrivite pentru dispozitive microvalvă, dispozitive de putere, etc.;
4. Etalaj prin dispersie fizică este aplicat unor metale anumite, cum ar fi niciu (Ni), crom (Cr), ceramici și alte materiale dificil de etalaj chimic, iar etalajul modelat al materialelor este realizat prin bombardament fizic;
5. Etalajul materialelor organice este aplicat etalajului, curățării și eliminării materialelor organice precum fotorezistenta (Photo Resist), PMMA, HDMS, Polimer;
6. Etalaj stratificat pentru analiza eșecurilor plăcii (Failure Analysis-FA);
7. Grabuirea materialelor bidimensionale: W, Mo materiale bidimensionale, grafen;

Descriere produs

Etalaj cu ioni reactivi (RIE)

Etalarea prin ioni reactivi (RIE) poate fi utilizată pentru a pregăti structuri micro-nano și este una dintre tehnologiile procesului de fabricație a semiconductoarelor. În timpul procesului de etalare RIE, diferite particule active din plasmă formează produse volatili cu suprafața materialului. Aceste produse sunt eliminate de pe suprafața materialului, realizând în final o etalare anizotropă a microstructurii suprafeței materialului. Produsele serie ale etaloarelor cu ioni reactivi (RIE) sunt bazate pe tehnologia plasmei cuplate capacitiv cu plașe plane și sunt potrivite pentru etalarea modelată a materialelor siliciu, cum ar fi siliciul monocristalin, siliciul policrostal, nitru de siliciu (SiNy), oxid de siliciu (SiO), cuarz (Quartz) și carbide de siliciu (SiC); pot fi utilizate pentru modelare și etalarea stratificată a materialelor organice, cum ar fi fotorezistenta (PR), PMMAHDMS și alte materiale; pot fi utilizate pentru etalarea fizică a materialelor metale, cum ar fi nicleu (Ni), craniu (Cr) și materiale ceramice; pot fi utilizate pentru etalarea la temperaturi ambiente a materialelor de fosfid de indiu (InP). Pentru unele tipuri de etalare cu cerințe proces mai ridicate, etalarea noastră ICP RIE poate fi de asemenea utilizată.

Configurație principală:

1. Dimensiune suport de probe: 4, 8, 12 inch, compatibil cu diverse probe mici, suport pentru personalizare
2. Interval putere plasma RF: 300/500/1000 W opțional;
3. Pompa moleculară: 620/1300 //s opțional, set de pompe anti-coroziune opțional;
4. Pompa preliminară: pompu mecanică cu ulei/pompu secă opțional;
5. Control al presiunii: 0 ~ 1 Torr opțional; configurația fără control al presiunii poate fi selectată,
6. Gaz de proces: până la 9 gaze de proces pot fi echipate simultan; temperatură: 10 grade ~ temeperatura ambientală / -30 de grade ~ temperatură ambientală / interval de temperatură personalizabil;
7. Răcire cu heliu în spate poate fi configurată în funcție de aplicație;
8. Tarnacă antipoluire demontabilă;
9. Sistem de blocare a sarcinii optional;
10. Sistem de control automat cu un buton;

Materiale potrivite pentru RIE:

1. Materiale bazate pe siliciu: siliciu (Si), dioxid de siliciu (SiO2), nitru de siliciu (SiNx), carburi de siliciu (SiC)
2. Materiale III-V: fosfid de indiu (InP), arsenur de galii (GaAs), nitru de galii (GaN)
3. Materiale II-VI: telurur de cadmiu (CdTe)
4. Materiale magnetice/materiale ale aliajelor
5. Materiale metalice: aluminiu (AI), aur (Au), tungsten (W), titan (Ti), tantal (Ta)
6. Materiale organice: fotorezist (PR), polimer organic (PMMA/HDMS), org

Aplicații Conexe cu RIE:

Rezultate ale aplicațiilor:

Configurarea proiectului și diagrama structurii mașinii

Articol	MD150-RIE	MD200-RIE	MD200C-RIE
Dimensiunea produsului	≤6 inches	≤8 inches	≤8 inches
Sursă de putere RF	0-300W/500W/1000W Ajustabil, potriviți automat
Pumpă Moleculare	-\/620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Personalizat			Antiseptic620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Personalizat
Pumpă Foreline	Pumpă mecanică\/pumpă secă			Pompă uscată
Presiunea procesului	Presiune necontrolată\/0-1Torr presiune controlată
Tip de gaz	H\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Personalizat (Până la 9 canale, fără gaze corozive și toxice)			H2\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/F6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Cl2\/BCl3\/HBr(Până la 9 canale)
Gama de gaze	0~5sccm\/50sccm\/100sccm\/200sccm\/300sccm\/500sccm\/personalizat
LoadLock	Da\/Nu			Da
Control temă eșantion	10°C~Temă cameră/-30°C~100°C/Personalizat			-30°C~100°C/Personalizat
Răcire cu helium din spate	Da\/Nu			Da
Tichetare cavitate proces	Da\/Nu			Da
Control temă perete cavitate	Nu/Temă cameră~60/120°C			Temă cameră-60/120°C
Sistemul de comandă	Automat/personalizat
Material de etalare	Bazat pe siliciu: Si/SiO2/SiNx··· IV-IV: SiC Materiale magnetice/alea metalice Material metallic: Ni/Cr/Al/Au..... Material organic: PR/PMMA/HDMS/Organic film......			Bazat pe siliciu: Si/SiO2/SiNx...... III-V (nota 3): InP/GaAs/GaN...... IV-IV: SiC II-VI (nota 3): CdTe...... Materiale magnetice/alea metalice Material metallic: Ni/Cr/A1/Au...... Material organic: PR/PMMA/HDMS/film organic...

Poze reale din laboratoare și fabrici

Ambalare și livrare

Întrebări frecvente

1. Despre preț:
Toate prețurile noastre sunt competitive și negociabile. Prețul variază în funcție de configurație și de complexitatea personalizării dispozitivului dumneavoastră.

2. Despre eșantion:
Vă putem oferi servicii de producție a eșantioanelor, dar este posibil să vă solicităm o taxă.

3. Despre Plată:
După confirmarea planului, trebuie să ne achitați întâi un avans; apoi fabrica începe pregătirea mărfurilor. După ce echipamentul este gata și achitați soldul, îl expediem.

4. Despre Livrare:
După finalizarea fabricării echipamentului, vă trimitem un videoclip de acceptare; de asemenea, puteți veni pe loc pentru a inspecta echipamentul.

5. Instalare și Depanare:
După ce echipamentul ajunge la fabrica dumneavoastră, putem trimite ingineri pentru instalare și punere în funcțiune. Vă oferim o cotare separată pentru această taxă de serviciu.

6. Despre garanție:
Echipamentele noastre beneficiază de o perioadă de garanție de 12 luni. După expirarea acestei perioade, dacă orice piese se deteriorează și necesită înlocuire, vom percepe doar prețul de cost.

Prima pagină

Despre noi

Echipament MH

Caseta video

Soluție

Utilizatori Din Străinătate

Contactați-ne

Sistem de gravare cu ioni reactivi (RlE)

Aplicații:

Etalaj cu ioni reactivi (RIE)

Configurație principală:

Materiale potrivite pentru RIE:

Aplicații Conexe cu RIE:

Mai multe produse

Montor manual pentru wafere

Vânzare directă de la fabrică: măcinător de wafere complet automat, de înaltă calitate, model MDG21503NC

Măcinător de wafere complet automat, model MDG21503NC

Sistem desktop pentru procesare termică rapidă (RTP)

Interogare

Articole

Produse

Contactați-ne