EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Introducere: Instrumentul de depunere prin pulverizare catodică cu dublu țintă este un instrument de depunere specific laboratorului, dezvoltat de compania noastră, care dispune de două poziții pentru ținte. Echipamentul este echipat cu o sursă de alimentare în curent continuu (CC) și o sursă de alimentare în curent alternativ de frecvență radio (RF). Comparativ cu pulverizarea prin plasma obișnuită, pulverizarea catodică oferă avantajele unei energii ridicate și a unei viteze mari, precum și ale unei rate ridicate de depunere, fiind o metodă tipică de pulverizare rapidă la temperatură scăzută. Ținta catodică este prevăzută cu un strat intermediar răcit cu apă. Instalația de răcire cu apă poate elimina eficient căldura și poate preveni acumularea acesteia pe suprafața țintei, astfel încât procesul de depunere catodică să funcționeze stabil pe termen lung. Suportul pentru eșantioane al acestui model are o concepție oscilantă, cu o tijă de împingere cu cuplaj magnetic pe partea stângă, care poate deplasa suportul pentru eșantioane spre stânga și spre dreapta. Întreaga mașină este comandată printr-un ecran tactil, cu un program integrat de depunere cu un singur buton, ușor și simplu de utilizat, reprezentând astfel un echipament ideal pentru pregătirea în laborator a filmelor subțiri.
Aplicație: Poate fi utilizat pentru pregătirea filmelor subțiri ferroelectrice simple sau multistrat, a filmelor conductoare, a filmelor de aliaje, a filmelor semiconductoare, a filmelor ceramice, a filmelor dielectrice, a filmelor optice etc.
