Introducere:
Instrumentul de depunere prin pulverizare catodică cu dublu ţintă este un instrument de depunere specific laboratorului, dezvoltat de către compania noastră, care dispune de două poziţii pentru ţinte. Echipamentul este echipat cu o sursă de alimentare în curent continuu şi o sursă de alimentare în curent alternativ de frecvenţă radio. Comparativ cu pulverizarea prin plasma obișnuită, pulverizarea catodică oferă avantajele unei energii ridicate şi a unei viteze mari, precum şi a unei rate ridicate de depunere, fiind o metodă tipică de pulverizare rapidă la temperatură scăzută. Ţinta catodică este echipată cu un strat intermediar răcit cu apă. Instalaţia de răcire cu apă poate elimina eficient căldura şi poate preveni acumularea acesteia pe suprafaţa ţintei, astfel încât procesul de depunere catodică să funcţioneze stabil pe termen lung. Suportul pentru probe al acestui model are o concepţie oscilantă, cu o tijă de împingere cu cuplaj magnetic pe partea stângă, care poate deplasa suportul pentru probe spre stânga şi spre dreapta. Întreaga maşină este comandată printr-un ecran tactil, având integrat un program de depunere cu un singur buton, uşor şi simplu de utilizat, reprezentând astfel un echipament ideal pentru pregătirea în laborator a filmelor subţiri.
Aplicație:
Poate fi utilizat pentru pregătirea filmelor subțiri ferroelectrice monocouche sau multistrat, a filmelor conductoare, a filmelor din aliaje, a filmelor semiconductoare, a filmelor ceramice, a filmelor dielectrice, a filmelor optice etc.