Reaktiv jonettersystem RIE , China Reaktiv jonettersystem RIE Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeskrivelse

Reaktiv jonetjing (RIE)

Reaktiv jonetching (RIE) kan brukes til å forberede mikro-nano-strukturer og er en av prosessteknologiene i semiførerproduksjon. Under RIE-etchingsprosessen danner ulike aktive partikler i plasma volatile produkter med materialets overflate. Disse produktene fjernes fra materialets overflate, og til slutt oppnår man anisotrop mikrostrukturet etching av materialets overflate. Reaktive jonetcheringsprodukter (RIE)-serien bygger på flatkapasitiv koblet plasma-teknologi og er egnet for mønsteret-ching av silikatmaterialer som enkristall-silisium, polykristall-silisium, silisium-nitrid (SiNy), silisium-oxid (SiO), kvarts (Quartz) og silisium-karbid (SiC); kan brukes for mønsterering og materialeavlagring av organiske materialer som fototoff (PR), PMMAHDMS og andre materialer; kan brukes for fysisk etching av metallmaterialer som nikkel (Ni), krom (Cr) og keramiske materialer; kan brukes for romtemperatur-indiumfosfid (InP) materialeetching. For noen etchinger med høyere prosesskrav kan vår ICP RIE etching også brukes.

Hovedkonfigurasjon:

1. Støtte for prøvestørrelse: 4, 8, 12 tommer, kompatibel med ulike små prøver, støtter tilpassing
2. RF-plasmastrømsområde: 300/500/1000 W valgfritt;
3. Molekylpumpe: 620/1300 //s valgfritt, valgfri korrosjonsresistent pumpesett;
4. Forpumpe: mekanisk olje-pumpe/tørre pump valgfritt;
5. Trykkkontroll: 0 ~1 Torr valgfritt; konfigurasjon uten trykkkontroll kan også velges,
6. Prosesgass: opp til 9 prosesgasser kan monteres samtidig; temperatur: 10 grader ~ romtemperatur/-30 grader ~ romtemperatur/tilpassbar temperaturspann,
7. Bakside-heliumkjøling kan konfigureres etter behov;
8. Fjernbart forurensningsforsvar;
9. Load-lock valgfri;
10. Fullstendig automatisk en-knapp kontrollsystem;

RIE Gjeldende Materialer:

1. Silisium-baserte materialer: silisium (Si), silisiumdioxid (SiO2), silisiumnitrid (SiNx), silisiumkarbid (SiC)
2. III-V materialer: indiumfosfid (InP), galliumarsenid (GaAs), galliumnitrid (GaN)
3. II-VI materialer: kadmiumberyll (CdTe)
4. Magnetiske materialer/legematerialer
5. Metallmaterialer: aluminium (AI), gull (Au), tungsten (W), titanium (Ti), tantal (Ta)
6. Organiske materialer: fotoresist (PR), organisk polymer (PMMA/HDMS), org

RIE Relaterte Anvendelser:

1. Etching av silisium-baserte materialer, nanoimprint mønstre, array mønstre og linse mønstre;
2. Etching ved romtemperatur av indium fosfid (InP), mønsteretcing av InP-baserte enheter i optisk kommunikasjon, inkludert bølg vej strukturer, resonanshule strukturer og kant strukturer;
3. Etching av SiC-materialer, egnet for mikrobølgeenheter, kraftenheter etc.;
4. Fysisk sputtering-etching brukes på visse metaller, som nikkel (Ni), krom (Cr), keramikk og andre materialer som er vanskelig å etch kjemisk, og mønsteret etching av materialer oppnås gjennom fysisk bombardering;
5. Etching av organiske materialer brukes til etching, rensning og fjerning av organiske materialer som fototapet (Photo Resist), PMMA, HDMS, Polymer;
6. Avlagringsetching for chipfeilanalyse (Failure Analysis-FA);
7. Etching av to-dimensjonale materialer: W, Mo to-dimensjonale materialer, graphene;

Søknadsresultater:

Prosjektkonfigurasjon og maskinstruktdiagram

Punkt	MD150-RIE	MD200-RIE	MD200C-RIE
Produktstørrelse	≤6 tommer	≤8 tommer	≤8 tommer
RF strømkilde	0-300W/500W/1000W Justerbart, automatisk matching
Molekylpumpe	-\/620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Tilpasset			Antiseptisk620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Tilpasset
Forlinepumpe	Maskinpumpe\/tør pumpe			Tørr pumpe
Prosesstrykk	Ukontrollert trykk\/0-1Torr kontrollert trykk
Gastype	H\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Tilpasset (Opp til 9 kanaler, ingen korrosive & giftige gasser)			H2\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/F6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Cl2\/BCl3\/HBr(Opp til 9 kanaler)
Gasspektrum	0~5sccm\/50sccm\/100sccm\/200sccm\/300sccm\/500sccm\/tilpasset
Lastelås	Ja/Nei			Ja
Prøve temperaturkontroll	10°C~Romtemperatur/-30°C~100°C/Brukerdefinert			-30°C~100°C/Brukerdefinert
Bakside heliumkjøling	Ja/Nei			Ja
Prosesshul lining	Ja/Nei			Ja
Hullvegg temperaturkontroll	Nei/Romtemperatur~60/120°C			Romtemperatur-60/120°C
Kontrollsystem	Automatisk/tilpasset
Graveringsmateriale	Silisium-basert: Si/SiO2/SiNx··· IV-IV: SiC Magnetiske materialer/alloysmaterialer Metallisk materiale: Ni/Cr/Al/Au..... Organisk materiale: PR/PMMA/HDMS/Organisk film......			Silisium-basert: Si/SiO2/SiNx...... III-V(merknad 3): InP/GaAs/GaN...... IV-IV: SiC II-VI (merknad 3): CdTe...... Magnetiske materialer/alloysmaterialer Metallisk materiale: Ni/Cr/A1/Au...... Organisk materiale: PR/PMMA/HDMS /organisk film...

Ekte bilder av laboratorier og fabrikk

Pakking & Levering

Selskapsprofil

Minder-Hightech er salgs- og service representant for utstyr i semiforelerings- og elektronikkproduktindustrien. Siden 2014 har selskapet vært dedikert til å gi kundene Superior, Reliable, og One-Stop-løsninger for maskinutstyr.

Ofte stilte spørsmål

1. Om prisen:
Alle våre priser er konkurransedyktige og forhandlingsmessige. Prisen varierer avhengig av konfigurasjonen og tilpassingskompleksiteten på enheten din.

2. Om eksempel:
Vi kan levere eksempelproduksjonservices for deg, men du må betale noen gebyrer.

3. Om betaling:
Etter at planen er bekreftet, må du først betale en nedbetaling, og fabrikken vil begynne å forberede varene. Når utstyret er klart og du har betalt resten, vil vi sende det.

4. Om levering:
Etter at produksjonen av utstyr er ferdig, vil vi sende deg akseptansekvideoen, og du kan også komme til stedet for å inspisere utstyret.

5. Installasjon og feilsøking:
Etter at utstyret har ankommet fabrikkene dine, kan vi sende ingeniører for å installere og调试utstyret. Vi vil gi deg en separat tilbud for denne tjenestekostnaden.

6. Om garanti:
Vårt utstyr har en garanti på 12 måneder. Etter garantiavgangen, hvis noen deler blir skadet og må byttes ut, vil vi bare beregne kostprisen.

Hjem

Om oss

MH Utstyr

Løsning

Utlandbrukere

Video

Kontakt Oss

Reaktiv jonettersystem RIE

Reaktiv jonetjing (RIE)

Hovedkonfigurasjon:

RIE Gjeldende Materialer:

RIE Relaterte Anvendelser:

Flere produkter

MD-FS Serie Kondensatorrulleringsmaskin

MD-FDS Serie Automatisk Kondensatorrulleringsmaskin

MD-EFS serie Kondensatorrulleringsmaskin

MD-EDFS Serie Filmkondensatorrulleringsmaskin

Henvendelse

Articles

Products

Get In Touch

Reaktiv jonettersystem RIE

Reaktiv jonetjing (RIE)

Hovedkonfigurasjon:

RIE Gjeldende Materialer:

RIE Relaterte Anvendelser:

Flere produkter

Henvendelse

Articles

Products

Get In Touch

Ta kontakt