EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Inleiding: Het magnetron-sputterapparaat met dubbele doelstelling is een laboratoriumspecifiek coatingapparaat met twee doelstellingsposities, ontwikkeld door ons bedrijf. Het apparaat is uitgerust met een gelijkstroomvoeding en een radiofrequentievoeding. In vergelijking met gewone plasma-sputtering biedt magnetron-sputtering de voordelen van hoge energie en hoge snelheid, een hoog coatingrendement en is het een typische snelle, lage-temperatuur-sputtering. De magnetron-doelstelling is voorzien van een watergekoelde tussenlaag. De waterkoeler kan de warmte effectief afvoeren en warmteopstapeling op het doelstellingsoppervlak voorkomen, zodat de magnetron-coating langdurig stabiel kan functioneren. Het monsterplatform van dit model heeft een heen-en-weergaand ontwerp, met een magnetisch gekoppelde duwstang aan de linkerkant, die het monsterplatform naar links en rechts kan duwen. De gehele machine wordt bestuurd via een touchscreen, met een ingebouwd één-knop-coatingprogramma, eenvoudig en gebruiksvriendelijk, en is een ideaal apparaat voor het laboratoriummatig bereiden van dunne films.
Toepassing: kan worden gebruikt voor het bereiden van enkel- of meervoudige ferro-elektrische dunne films, geleidende films, legeringsfilms, halfgeleiderfilms, keramische films, diëlektrische films, optische films, enz.
