Pengenalan:
Alat pelapisan sputtering magnetron dwi-sasaran adalah alat pelapisan khusus makmal dengan dua kedudukan sasaran yang dibangunkan oleh syarikat kami. Peralatan ini dilengkapi dengan bekalan kuasa DC dan bekalan kuasa frekuensi radio. Berbandingkan dengan sputtering plasma biasa, sputtering magnetron mempunyai kelebihan seperti tenaga tinggi dan kelajuan tinggi, kadar pelapisan tinggi, serta merupakan sputtering berkelajuan tinggi suhu rendah yang tipikal. Sasaran magnetron dilengkapi dengan lapisan antara berpendingin air. Penyejuk air dapat secara berkesan mengalihkan haba dan mengelakkan pengumpulan haba pada permukaan sasaran, membolehkan pelapisan magnetron beroperasi secara stabil dalam jangka masa panjang. Pentas sampel bagi model ini menggunakan rekabentuk bolak-balik, dengan batang tolak kupling magnetik di sebelah kiri, yang boleh menolak pentas sampel ke kiri dan ke kanan. Keseluruhan jentera dikawal melalui skrin sentuh, dengan program pelapisan satu-tombol terbina dalam, mudah dan ringkas untuk digunakan, serta merupakan peralatan ideal untuk penyediaan filem nipis di makmal.
Permohonan:
Boleh digunakan untuk menyediakan film ferroelektrik nipis tunggal atau berbilang lapisan, film konduktif, film aloi, film semikonduktor, film seramik, film dielektrik, film optik, dan sebagainya.