Sistem Etching Plasma Penyambungan Induktif (ICP) Peralatan Semikonduktor , China Sistem Etching Plasma Penyambungan Induktif (ICP) Peralatan Semikonduktor Manufacturers, Suppliers, Factory

Penerangan Produk

Sistem pengecekan plasma induktif (icp)

Teknologi pengetching ion reaktif yang diikat secara induktif adalah sejenis RIE. Teknologi ini mencapai penyahkoppelan antara kepadatan ion plasma dan tenaga ion dengan mengawal fluks ion secara berasingan, seterusnya meningkatkan ketepatan dan kelenturan proses pengetching.

Produk siri penggerudian ion reaktif berpasangan secara induktif (ICP-RIE) berketumpatan tinggi adalah berdasarkan teknologi plasma berpasangan secara induktif dan bertujuan memenuhi keperluan penggerudian halus serta penggerudian semikonduktor gubahan. Ia mempunyai kestabilan proses dan kebolehulangan proses yang sangat baik, serta sesuai untuk aplikasi dalam semikonduktor silikon, optoelektronik, maklumat dan komunikasi, peranti kuasa, dan peranti gelombang mikro.

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory

Bahan yang Berkenaan:

1. Bahan berasaskan silikon: silikon (Si), silikon dioksida (SiO2), silikon nitrida (SiNx), silikon karbida (SiC)...

2. Bahan III-V: indium fosforida (InP), gallium arsenida (GaAs), gallium nitrida (GaN)...

3. Bahan II-VI: kadmium telurida (CdTe)...

4. Bahan magnetik/bahan aloi

5. Bahan logam: aluminium (Al), emas (Au), tungsten (W), titanium (Ti), tantalum (Ta)...

6. Bahan organik: resist foto (PR), polimer organik (PMMA/HDMS), filem nipis organik...

7. Bahan ferroelektrik/fotoelektrik: litium niobat (LiNbO3)...

8. Bahan dielektrik: nilam (Al2O3), kuarsa...

Aplikasi berkaitan:

1. Pengukiran kisi: digunakan untuk paparan 3D, peranti mikro-optik, optoelektronik, dan lain-lain;

2. Pengukiran semikonduktor gandaan: digunakan untuk LED, laser, komunikasi optik, dan lain-lain;

3. Substrat safir berpola (PSS);

4. Pengukiran litium niobat (LiNO3): pengesan, optoelektronik;

Keputusan proses

Pengikisan Kuarsa / silikon / grating

Menggunakan topeng BR untuk mengikis bahan kuarsa atau silikon, corak larik grating mempunyai garis tertipis hingga 300nm dan kecuraman dinding corak adalah lebih dekat kepada > 89° , yang boleh digunakan dalam paparan 3D, peranti optik mikro, komunikasi optoelektronik, dll

Pengikisan sebatian / semiconductor

Kawalan tepat suhu permukaan sampel boleh dengan baik mengawal morfologi pengikisan bahan berdasarkan GaN, GaAs, InP dan logam. Ia sesuai untuk peranti lED biru, laz, komunikasi optik dan aplikasi lain.

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment manufacture

Pengikisan bahan berbasa silikon

ia sesuai untuk pengikisan bahan berdasarkan silikon seperti Si, SiO2, dan SiNx. Ia boleh mencapai pengikisan garis silikon di atas 50nm dan pengikisan lubang dalam silikon di bawah 100um.

Spesifikasi

Konfigurasi projek dan gambar struktur mesin

Item	MD150S-ICP	MD200S-ICP	MD150CS-ICP	MD200CS-ICP	MD300C-ICP
Saiz Produk	≤6 inci	≤8 inci	≤6 inci	≤8 inci	Suai≥12inci
SRF Sumber kuasa	0~1000W/2000W/3000W/5000W Tersuaikan, penyegerakan automatik\,13.56MHz/27MHz
BRF Sumber kuasa	0~300W/0~500W/0~1000W Tersuaikan, penyegerakan automatik,2MHz/13.56MHz
Pump molekul	Tidak kerosakkan : 600 /1300 (L/s)/Suai			Anti-kerosakan:600 /1300 (L./s)/Suai		600/1300(L/s) /Suai
Pump Foreline	Pump Mekanikal / pump kering			Pump kering anti-korosi		Pump Mekanikal / pump kering
Pump pra-pumping	Pump Mekanikal / pump kering			Pump Mekanikal / pump kering
Tekanan proses	Tekanan tidak terkawal/0-0.1/1/10Torr tekanan terkawal
Jenis gas	H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Tersuai (Hingga 12 saluran, tiada gas korosif & toksik)			H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/ C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/ Tersuai (Hingga 12 saluran)
Dapur gas	0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Pembuatan Sendiri
Muatan Kunci	Ya/Tidak			Ya
Kawalan suhu sampel	10°C~Suhu Bilik/ -30°C~150°C /Pembuatan Sendiri			-30°C~200°C/Pembuatan Sendiri
Penyejukan helium belakang	Ya/Tidak			Ya
Pembalut rongga proses	Ya/Tidak			Ya
Kawalan suhu dinding rongga	Tidak/Suhu Bilik-60/120°C			Suhu Bilik~60/120°C
Sistem Kawalan	Kereta/persuaian
Bahan pemberesan	Berdasarkan silikon: Si/SiO2/ SiNx/ SiC..... Bahan organik: PR/Organik filem......			Berdasarkan silikon: Si/SiO2/SiNx/SiC III-V: InP/GaAs/GaN...... IV-IV: SiC II-VI: CdTe...... Bahan magnetik \/ bahan aloi Bahan logam: Ni\/Cr\/Al\/Cu\/Au... Bahan organik: PR\/filem organik...... Pengikisan dalam silikon

Pembungkusan & Penghantaran

Profil Syarikat

Kami mempunyai 16 tahun pengalaman dalam penjualan peralatan. Kami boleh memberi anda penyelesaian profesional garis pakej Semikonduktor hadapan dan belakang satu henti dari China.