Menonjolkan
Pengenalan: Peralatan ini ialah sebuah instrumen pelapisan magnetron dwi-sasaran. Ia dilengkapi dengan dua sasaran magnetron dan dua set bekalan kuasa DC. Peralatan ini boleh digunakan untuk melapisi film logam konduktif berbilang lapisan. Pada masa yang sama, peralatan ini terdiri daripada dua bahagian: ruang utama dan ruang peralihan. Ruang peralihan dilengkapi dengan batang tolak magnetik, manakala injap pintu vakum dipasang di antara kedua-dua ruang tersebut. Pengguna boleh memuatkan sampel dalam ruang peralihan dan melakukan pra-vakum semasa proses percikan (sputtering) berlaku di dalam ruang utama. Setelah proses percikan di ruang utama selesai, sampel boleh ditolak ke tapak sampel dalam ruang utama melalui batang tolak magnetik. Reka bentuk ini dapat mengurangkan bilangan kali ruang utama dihampakan dan dilepaskan, yang bukan sahaja secara berkesan menjimatkan masa, tetapi juga memastikan vakum tempatan yang lebih baik serta meningkatkan kualiti pelapisan secara berkesan.
Aplikasi: Alat ini boleh digunakan untuk menyediakan filem nipis ferroelektrik tunggal atau berbilang lapisan, filem konduktif, filem aloi, filem semikonduktor, filem seramik, filem dielektrik, filem optik, dan sebagainya.