Menonjolkan
Pengenalan:
Pelapik magnetron sasaran-dua adalah pelapik khusus makmal yang dibangunkan oleh syarikat kami. Peralatan ini boleh dilengkapi dengan bekalan kuasa DC dan bekalan kuasa RF, dengan kuasa antara 500W hingga 1000W. Berbandingkan dengan pelapikan plasma biasa, pelapikan magnetron mempunyai kelebihan seperti tenaga tinggi dan kelajuan tinggi, kadar pelapikan tinggi, serta peningkatan suhu sampel yang rendah. Ia merupakan pelapikan berkelajuan tinggi dan bersuhu rendah yang tipikal. Sasaran magnetron dilengkapi dengan lapisan antara berpendingin air. Penyejuk air dapat secara berkesan mengalihkan haba dan mengelakkan pengumpulan haba pada permukaan sasaran, membolehkan pelapikan magnetron beroperasi secara stabil dalam jangka masa yang panjang. Peralatan ini direka secara padat untuk mencapai keseimbangan antara isipadu dan prestasi, dengan rupa yang menarik serta fungsi yang lengkap. Keseluruhan jentera dikawal melalui skrin sentuh, dengan program pelapikan satu-tombol terbina dalam, menjadikannya mudah dan ringkas untuk dioperasikan. Ia merupakan peralatan ideal untuk menyediakan filem nipis di makmal.
Aplikasi: Alat ini boleh digunakan untuk menyediakan filem nipis ferroelektrik tunggal atau berbilang lapisan, filem konduktif, filem aloi, filem semikonduktor, filem seramik, filem dielektrik, filem optik, dan sebagainya.