Pembersihan Wafer Semikonduktor Selepas Etching ICP Mesin Plasma Eksperimen Mengalih Keluar Photoresist , China Pembersihan Wafer Semikonduktor Selepas Etching ICP Mesin Plasma Eksperimen Mengalih Keluar Photoresist Manufacturers, Suppliers, Factory

Penerangan Produk

Mesin Pengalihan Photoresist Plasma Eksperimen ICP

Pengalihan polimer, etching oksida silikon atau karbida silikon, pembersihan permukaan selepas etching

Pengalihan Polimer ASHING Pengelakanan DESCUM Kering Pengalihan lapisan topeng keras Pengalihan perlawanan foto selepas penanaman ion Pengalihan perlawanan optik di antara media Pengalihan perlawanan foto dalam proses BAW/SAW Pembersihan kering filem grafik anti pantulan Pemerosesan silikon oksida atau nitrida silikon Pembersihan sisa permukaan Pembersihan permukaan selepas pemerosesan Pemerosesan karbida silikon

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture

Spesifikasi

Sumber plasma			RF+BIAS
Kuasa	1000W	1000W
Kuasa		600W	600W
Bidang Kepantasan			4-8 inci
Bilangan irisan pemprosesan tunggal			satu
Dimensi penampilan			1140mm x 1050mm x 1620mm
Kawalan sistem			Sistem kawalan perindustrian
Tahap Automasi			Manual

Kilang

Pembungkusan & Penghantaran

Profil Syarikat

16 tahun pengalaman dalam eksport peralatan! Kami boleh memberikan kepada anda penyelesaian satu henti untuk Proses dan Peralatan Semikonduktor Front End!