EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
Pembersih plasma frekuensi sederhana berpelbagai julat menggunakan sumber kuasa penggerak untuk mengionkan gas kepada keadaan plasma. Plasma ini bertindak pada permukaan produk, membersihkan kontaminan, meningkatkan aktiviti permukaan, dan memperkukuh lekatan. Pembersihan plasma merupakan kaedah rawatan permukaan yang baharu, mesra alam, cekap, dan stabil.
Penjana plasma linear sesuai untuk pelbagai ruang terhad dan boleh disesuaikan mengikut lebar produk, membolehkan pengeluaran berterusan.
Suhu pemprosesan piawai adalah <45°C. Bahan penebat pada lapisan luar elektrod voltan tinggi (HV) seterusnya mengurangkan suhu pemprosesan peralatan plasma lebar. Boleh disesuaikan mengikut lebar produk dan boleh dipasang secara langsung pada talian pengeluaran, meningkatkan kecekapan pemprosesan secara ketara. Dengan menggunakan struktur penjanaan plasma yang unik, suhu pemprosesan piawai adalah <45°C, memastikan operasi yang seragam dan stabil. Bekalan kuasa digital frekuensi sederhana yang dipatenkan menjamin plasma yang seragam dan pemprosesan yang stabil.
Aplikasi: 1. Industri 3C: Ikatan TP, pengaktifan permukaan panel, dan pembersihan permukaan sebelum salutan ITO, secara berkesan menghilangkan bahan organik dan bendasing di permukaan untuk meningkatkan lekatan permukaan. 2. Industri elektronik: Pembersihan organik dan pengaktifan permukaan papan litar FPC/PCB untuk meningkatkan kebasahan permukaan serta memperkuat kekuatan pematerian dan ikatan pelekat. 3. Industri semikonduktor: Ikatan pembungkusan terpadu, rawatan pra-ikatan wayar, pembungkusan seramik, pengaktifan permukaan BGA/LED, meningkatkan ketepatan pembungkusan, serta memperbaiki kadar hasil. 4. Industri plastik: Pengubahsuaian permukaan, pengkasaran permukaan, peningkatan lekatan permukaan, serta peningkatan kualiti ikatan dan percetakan. 5. Industri penutup kaca: Rawatan pra-salutan AF, penyingkiran salutan limpah AF/AS, percetakan tinta, pengaktifan struktur permukaan bahan, penghilangan elektrik statik, habuk dan tompok minyak, serta peningkatan sifat hidrofilik.
