Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
קבל הצעה

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

דף הבית
אודותינו
ציודquipment MH
פתרון
משתמשים מחוץ לארץ
סרטון
לְהִתְחַבֵּר אֵלֵינוּ
בית> הסרת PR RTP USC
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist
  • Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist

Wafer חומרה קרביד סיליקון אטימג RIE Reactive Ion Etching מנק פלזמה Photoresist

קבלו הצעת מחיר בחינם
תיאור המוצר

RIE Plasma הסרת פוטורזיסט מכונה

RIE Plasma הסרת פוטורזיסט מכונה מתאימה לחיתוך קרביד סיליקון, הסרת שאריות על פני השטח, חיתוך אוקסיד סיליקון או ניטריד סיליקון וכו'. המרחב מתאים לדוגמאות בגודל 4-8 אינץ'.
חיתוך סיליקון קרביד
ניקוי לפני לאחר חיתוך
DESCUM
שכבה של מסכה קשה, הסרת יבשה
חיתוך חמצן סיליקוני או ניטריד סיליקון
הסרת התנגדות אופטית בין תquivos
הסרת שאריות משטח
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
מפרט
מקור PLASMA
RF
הספק
ICP
_
BIAS
1000W(option)
טווח תוקף
4~8 אינץ'
מספר פרוסות עיבוד יחיד
1
מימדים חיצוניים
850mmx900mmx1850mm
בקרת מערכת
PLC
רמת רמת אוטומציה
מדריך
מפעל
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
אריזה ומשלוח
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
פרטי החברה
16 שנים של נסיון ביצוא ציוד! אנו יכולים לספק לך פתרון מלא לתהליכים וציוד בסמikondt Front End!
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

מוצרים נוספים

בקשה למידע

כל הזכויות שמורות © לתאגיד Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. כל הזכויות שמורות

מדיניות הפרטיות

בקשה למידע Email WhatsApp הראשון
×

צרו איתנו קשר