Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
קבל הצעה

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

דף הבית
עַל אָמַת
ציודquipment MH
פתרון
משתמשים מחוץ לארץ
וידאוيديו
לְהִתְחַבֵּר אֵלֵינוּ
בית> הסרת PR RTP USC
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט
  • טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט

טיהור פלטת חומרה לאחר חיתוך ICP מנגנון ניסויי פלזמה להסרת פוטורזיסט

קבלו הצעת מחיר חינם
תיאור המוצר

מכונה פלזמה ניסיונית להסרת פוטורזיסט ICP

הסרת פולימר, חיתוך אוקסיד סיליקון או קARBID סיליקון, ניקוי פני לפני אחרי חיתוך
הסרת פולימר ASHING הסרת שכבה קשיחה של מסכה יבשה הסרת חומרי התנגדות לאחר השתלת יונים הסרת התנגדות אופטית בין מדיה ההסרה של חומרי התנגדות בפרוצס BAW/SAW ניקוי יבש של שכבה גרפית אנטי-מראה חיתוך של חמצן סיליקון או ניטריד סיליקון הסרת שאריות על פני השטח ניקוי שטח לאחר חיתוך חיתוך של כARBON סיליקון
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
מפרט
מקור PLASMA
RF+BIAS
כוח
1000W
1000W
600W
600W
טווח תוקף
4-8 אינץ'ים
מספר פרוסות עיבוד יחיד
אחד
מימדים חיצוניים
1140mm x 1050mm x 1620mm
בקרת מערכת
מערכת שליטה תעשייתית
רמת רמת אוטומציה
מדריך
המפעל שלנו
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
אריזה & שipment
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
פרופילrofile של החברה
16 שנים של נסיון ביצוא ציוד! אנו יכולים לספק לך פתרון מלא לתהליכים וציוד בסמikondt Front End!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

מוצרים נוספים

חֲקִירָה

כל הזכויות שמורות © לתאגיד Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. כל הזכויות שמורות

מדיניותICY

חֲקִירָה Email WhatsApp עליון
×

התקשרו אלינו