Hraður hitabelgur skjáborðs RTP kerfi fyrir samsetta hlutafögu SlC LED og MEMS , China Hraður hitabelgur skjáborðs RTP kerfi fyrir samsetta hlutafögu SlC LED og MEMS Manufacturers, Suppliers, Factory

Vöruskýring

Rapid Thermal Processing

Borga áhugaverða RTP-útríki fyrir samskeytt haldafræði, SlC, LED og MEMS

Iðnaðarumsóknir

* Vækting raka, nitrið
* Hraði límning af Ohmic tengingum
* Silisíðalímning
* Raka afturflutningur
* Rokkvaarsenidferli
* Aðrar hrattvarmaframkvæmdir

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS details

Vörufríðindi

1. Framkvæmdirangur fylgir 200-1250 ℃
2. Sterkt stjórnunarkerfi fyrir hitastarf
3. Sérstakt RTP reiknirit
4. Faglegt TC WAFER skjalunarverkfæri

Eiginleiki

* Rauðlýs halogenlampi varming, køling með loftkøling;
* PlD hitastjórnun fyrir lampustyrkina, sem getur nákvæmlega stjórnað hitastíg augu, vinnslu að gagnlegri endurnýjun og jafnefni hitastigs;
* Innflutningur á matri er settur á WAFER-ytrað við að forða kaldapunkt við ferilferlið og vinnslu að góðu jafnefni hitastigs á vöru;
* Bæði loft- og tómulykillvinnslu aðferðir eru hægt að velja, með undirstöðu- og hreinsetingu vöxtu;
* Tvösett af ferlagsgás eru venjuleg og geta verið vídd til að fjögur sett af ferlagsgás;
* Hæsta stærð mælanlega enungarsilíceinsprófs er 12 tommur (300x300mm);
* Þrjár tryggja aðgerðir fyrir öruggan hitiopningu, vörumerki opningar leyfi og hreinsing á skipulagi eru fullkomið til að varðveita öryrgu skipulagsins;

Sammentoka 20 gráðuferla

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS manufacture

20 ferlar fyrir hitastjórnun við 850 ℃

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS factory

Sammentoka 20 meðalfjárhitaferla

hitastjórnun við 1250 ℃

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS supplier

RTP hitastjórnun ferli við 1000 ℃

ferli við 960 ℃, stjórnað af rauðglómarpyrometer

LED ferladæta

RTD Wafer er hituskjálsemi sem notar sérstök tölugreiningaráttningar til að setja inn hituskjálsefni (RTDs) á ákveðin staðsetningar á ytraflat einnar pláta, þannig að raunveruleg mæling yfirborðshitunar á plátunni sé hægt.
Raunverulegar hitumælingar á ákveðnum staðum á plátunni og almennt hitudreifingarplötur plátunnar geta verið náðar með RTD Wafer; Hún getur líka verið notað fyrir samfelld athugað af flókinni hitubreytingu á plátum í hlutdrættiþróunarforskeyti.