Φάρμακο ηλεκτρονικών φέρεκα Καρβουρικού Σιδηρίου RIE Ενεργός Ιόνιος Καθαρισμός Plasma Αφαίρεση Photoresist Μηχανή , China Φάρμακο ηλεκτρονικών φέρεκα Καρβουρικού Σιδηρίου RIE Ενεργός Ιόνιος Καθαρισμός Plasma Αφαίρεση Photoresist Μηχανή Manufacturers, Suppliers, Factory

Περιγραφή Προϊόντος

RIE Plasma αφαίρεση photoresist μηχανή

RIE Plasma αφαίρεση photoresist μηχανής προσαρμόζεται για κάδμιο καρβουρικής ετσιμού, αφαίρεση επιφανειακών υπολειμμάτων, ετσιμού διοξειδίου καρβονίου ή νιτρικού καρβονίου, κλπ. Το κενό είναι κατάλληλο για δείγματα 4-8 ίντσες

Εκτροχιλισμός καρβουρικού καλλίου
Καθαρισμός επιφάνειας μετά τον εκτροχιλισμό
DESCUM
Σκληρό διαμόρφωμα, ξερή αφαίρεση
Εκτροχιλισμός διοξειδίου καρβουνίου ή νιτρικού καρβουνίου
Αφαίρεση βλοπικής αντιστάσεως μεταξύ μεσιών
Αφαίρεση υπολοίπων στην επιφάνεια

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier

Περιγραφή

ΠΛΑΣΜΑ πηγή			Rf
Δύναμη	ICP	_
Δύναμη		BIAS	1000W(επιλογή)
Πεδίο εφαρμογής			4~8 εγχώμενα
Μοναδική επεξεργασία φύλλων			1
Διαστάσεις εμφάνισης			850mmx900mmx1850mm
Ελέγχος συστήματος			ΠΛΚ
Επίπεδο Αυτοματισμού			Χειροκίνητο

Εργοστάσιο

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details

Συσκευασία & Παράδοση

Προφίλ Εταιρείας

16 χρόνια εμπειρίας στην εξαγωγή εξοπλισμού! Μπορούμε να σας προσφέρουμε μια μια-στάδιο λύση για διαδικασίες και εξοπλισμού πρώτων στάδιων προϊόντων που περιέχουν πλαστικά!