Εισαγωγή:
Το εξοπλισμός έχει υποστεί μικροποίηση, διατηρώντας την κοιλότητα υψηλού κενού από ανοξείδωτο χάλυβα, ενώ οι υπόλοιποι μηχανισμοί έχουν απλοποιηθεί, περιορίζοντας τις διαστάσεις του εξοπλισμού σε επίπεδο εργασίας (desktop), με αποτέλεσμα τη σημαντική μείωση των απαιτήσεων για τον χώρο εγκατάστασης. Ο εξοπλισμός διαθέτει τροφοδοσία συνεχούς ρεύματος (DC) και τροφοδοσία ραδιοσυχνότητας (RF). Ο στόχος DC μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την απόθεση λεπτών υμενίων μετάλλων και άλλων αγώγιμων υλικών, ενώ η τροφοδοσία RF μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την απόθεση διαφόρων μη μεταλλικών υλικών και μεταλλικών οξειδίων. Το σύστημα κενού του εξοπλισμού χρησιμοποιεί αντλία κενού πλήρως εισαγόμενη, με γρήγορη ταχύτητα αντλίας, υψηλό τελικό βαθμό κενού και εξαιρετική απόδοση στο κενό. Αυτός ο εξοπλισμός διαθέτει συμπαγή δομή, πλήρεις λειτουργίες και είναι εύκολος στη χρήση, καθιστώντας τον ιδανικό για διάφορες δοκιμές επίστρωσης.
Εφαρμογή:
Μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την παρασκευή λεπτών υμενίων μετάλλων, σε ηλεκτρονικούς τομείς, οπτικούς τομείς, ειδικά κεραμικά κ.λπ. Μπορεί επίσης να χρησιμοποιηθεί για την παρασκευή δειγμάτων για ηλεκτρονικό μικροσκόπιο σάρωσης (SEM) στο εργαστήριο.