Καθαρισμός πλάκας ολοκληρωμένων κυκλωμάτων μετά την εκβολή ICP πειραματική Μηχανή Πλάσμας για Αφαίρεση Φωτορεζιστ , China Καθαρισμός πλάκας ολοκληρωμένων κυκλωμάτων μετά την εκβολή ICP πειραματική Μηχανή Πλάσμας για Αφαίρεση Φωτορεζιστ Manufacturers, Suppliers, Factory

Περιγραφή Προϊόντος

Εργαστηριακό Μηχάνημα Πλάσμα για Αφαίρεση Φωτορεζιστ ICP

Αφαίρεση πολυμερών, ετσιάσιμο διοξειδίου καρβονίου ή καρβουριλίου, καθαρισμός επιφάνειας μετά την ετσιάσιμο

Αφαίρεση πολυμερών ASHING Αφαίρεση σκουπιδιών με ξηρό τρόπο αφαιρέσεως της σκληρής μάσκας Αφαίρεση φωτορεζιστανσίας μετά την ιονική εισοχή Αφαίρεση βλεπόμενης αντίστασης μεταξύ μεσιών Αφαίρεση φωτορεζιστανσίας στη διαδικασία BAW/SAW Ξηρή καθαρισμός της γραφικής επιφάνειας αντανακλαστικής στρώσης Ετσιμγραφή διοξειδίου ή νιτρικού άνθρακα σιλικίου Αφαίρεση υπολειμμάτων από την επιφάνεια μετά την ετσιμγραφή Ετσιμγραφή καρβουριλείου σιλικίου

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details

Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture

Περιγραφή

ΠΛΑΣΜΑ πηγή			RF+BIAS
Δύναμη	1000W	1000W
Δύναμη		600W	600W
Πεδίο εφαρμογής			4-8 palees
Μοναδική επεξεργασία φύλλων			ένα
Διαστάσεις εμφάνισης			1140mm x 1050mm x 1620mm
Ελέγχος συστήματος			Σύστημα Βιομηχανικής Ελέγχου
Επίπεδο Αυτοματισμού			Χειροκίνητο

Εργοστάσιο

Συσκευασία & Παράδοση

Προφίλ Εταιρείας

16 χρόνια εμπειρίας στην εξαγωγή εξοπλισμού! Μπορούμε να σας προσφέρουμε μια μια-στάδιο λύση για διαδικασίες και εξοπλισμού πρώτων στάδιων προϊόντων που περιέχουν πλαστικά!