Семикондукторна плачка Оксидиране на силiciя Преградено ионно окисление (RIE) Плазмен машина за премахване на фоторезист , China Семикондукторна плачка Оксидиране на силiciя Преградено ионно окисление (RIE) Плазмен машина за премахване на фоторезист Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание на продукта

RIE Plasma премахване на фоторезист машина

RIE Plasma премахване на фоторезист машина, подходяща за етчинг на силени карбид, премахване на повърхностни остатъци, етчинг на силен оксид или силен нитрид и др. Камерата е подходяща за проби от 4-8 инча

Етчинг на силени карбид
Повърхностна чистка след етчинг
DESCUM
Твърда маска, сухо премахване
Етчинг на силен оксид или силен нитрид
Премахване на оптичното съпротивление между медии
Премахване на повърхностни остатъци

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier

Спецификация

Източник на плазма			RF
Мощност	ICP	_
Мощност		BIAS	1000W(option)
Област на приложимост			4~8 инча
Брой на отделните обработвани кръглици			1
Размери на външният вид			850mmx900mmx1850mm
Контрол на системата			ПЛК
Ниво на автоматизация			Ръководство