ЗАБРАВЯНЕ НА ФОТОРЕЗИСТА Removal ICP Суход Plasma Photoresist Removal Machine , China ЗАБРАВЯНЕ НА ФОТОРЕЗИСТА Removal ICP Суход Plasma Photoresist Removal Machine Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание на продукта

ICP суход плазмено премахване на фоторезистентност

ICP суход плазмено премахване на фоторезистентност е основно използвано за премахване на полимери, ASHING, DESCUM, премахване на фоторезистентност след ионна имплантация и премахване на повърхностни остатъци. Камерата е подходяща за образци от 4-8 инча, с 1-2 штуки обработени в един процес.

Миване
Премахване на полимер
Суcho премахване на твърда маска
Премахване на фоторезист след ионна имплантация
Премахване на фотоуспоредност в процеса BAW/SAW
Сухо очистване на слоя с антирефлектиращ графичен филм
Премахване на повърхностни остатъци
Повърхностна чистка след етчинг
DESCUM

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Спецификация

Плазма			RF	RF
Мощност	ICP	1000W	1000W
Мощност		BIAS	600w(option)	600w(option)
Област на приложимост			4~8寸	4~8寸
Брой на отделните обработвани кръглици			1	2
Размери на външният вид			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Контрол на системата			Система за индустриално управление	Система за индустриално управление
Ниво на автоматизация			автоматичен	автоматичен