Система за литография без маска , China Система за литография без маска Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание на продукта

Проба:

Диаграма на конструкцията на оборудването

Спецификация

Диаграма за конструкцията на основния модул за експозиция

структура	дайте пример
Експониране на масата	Площ за експозиция: маса, площ за поставяне на субстрат
Оптична система	Област за изсвирване на лазер
Система за контрол на околната среда	Контролира вътрешната температура и положителното налягане на устройството
Система за платформа	Контролира движението на масата за експозиция, за да завърши операцията по пътя на експозицията
Система за управление	Система за управление на цялото оборудване

Бележка: Поради модернизацията на машината, визуалният вид може да се промени. Специфичното се отнася до реалния продукт.

Не.	Околна среда	Изискват
1	Светлинна среда	Жълто светлина
2	Температура	22℃±2℃
3	Влажност	50%±10%
4	Чистота	1000
5	CDA	0.6±0.1Mpa, 200LPM, сух, чист въздух
6	Източник на електрозахранване	220~240В, 50/60Hz, 2.5КВт; Заземлението трябва да е заземено,
7	Хладна вода	Температура: 10℃~ 20℃ Налягане: 0.3МПа ~ 0.5МПа Препълнение: 20Л/мин Разлика в налягането: 0.3МПа и повече Диаметър на връзката: Rc3/8
8	Място за провеждане	ниво: ±3мм/3000мм трептение: VC-B Подшипник: 750кг/кв.м
10	Интернет	Един интернет порт
11	Размер на машината	130011002100мм
12	Тегло на устройството	1500кг

Не.	Проект	Спецификация.	Забележка
1	Резолюция	0.6мкм/или друго изискване	AZ703, AZ1350
2	CDU	±10%@1мкм
3	Толщина на субстрата	0.2мм~4мм
4	Точност на датова мрежа	60нм
5	Наложен слой	±500нм	130mmx130mm
6	Точност на шейване	±200nm	AZ703
7	Максимален размер на експозиция	190X190mm
8	Пропускана способност	≥300mm2/min	≤50mj/cm2;
9	източник на светлина	LD 375nm
10	свързана мощност	6W
11	Енергийна равномерност	≥95%
12	жизнен циклус на светлината	10000hr