Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
احصل على عرض سعر

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

الصفحة الرئيسية
معلومات عنا
مُعدات MH
حل
المستخدمون في الخارج
فيديو
اتصل بنا
الرئيسية> إزالة PR، RTP، USC
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما
  • شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما

شريحة شبه موصلة كربيد السيليكون إزالة التآكل RIE إزالة البلاستيك البلازما بالبلازما

احصل على عرض سعر مجاني
وصف المنتج

جهاز إزالة البلازما للفوتوريسست باستخدام RIE

جهاز إزالة البلازما للفوتوريسست باستخدام RIE مناسب لتآكل السيليكون الكربوني وإزالة الرواسب السطحية وتآكل أكسيد السيليكون أو نيتريد السيليكون وما إلى ذلك. تتناسب الحجرة مع عينات بحجم 4-8 بوصات
تنقية الكربيد السيليكون
تنظيف السطح بعد التآكل
إزالة الشوائب (DESCUM)
طبقة القناع الصلب، الإزالة الجافة
تنقية أكسيد السيليكون أو نيتريد السيليكون
إزالة المقاومة البصرية بين الوسائط
إزالة الرواسب السطحية
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
المواصفات
مصدر البلازما
RF
طاقة
ICP
_
BIAS
1000W(اختياري)
نطاق التطبيق
4~8 بوصة
عدد الشرائح المعالجة بشكل فردي
1
الأبعاد الخارجية
850مم × 900مم × 1850مم
تحكم النظام
PLC
مستوى الأتمتة
دليل
.
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
التغليف والشحن
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
نبذة عن الشركة
16 عامًا من الخبرة في تصدير المعدات! يمكننا تقديم حل شامل لعمليات وتجهيزات شبه الموصلات في المرحلة الأولى!
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

مزيد من المنتجات

استفسار

جميع الحقوق محفوظة © شركة قوانغتشو ميندر هاي تيك المحدودة

سياسة الخصوصية

استفسار Email Whatsapp أعلى
×

تواصل معنا