Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Kry Prys

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Tuisblad
Oor Ons
MH Equipment
Oplossing
Gebruikers buite lande
Video
Kontak Ons
Tuis> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE
  • Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE

Reaktiewe Ion Etserstelsel RIE

Kry 'n Gratis Offerte
Produkbeskrywing

Reaktiewe ion-etsing (RIE)

Reaktiewe ion-etsing (RIE) kan gebruik word om mikro-nano strukture voor te berei en is een van die haltegnologieë in die vervaardiging van halvoute. Tydens die RIE-etsproses vorm verskeie aktiewe deeltjies in die plasma volatiele produkte met die oppervlak van die materiaal. Hierdie produkte word van die oppervlak van die materiaal weggenome, en uiteindelik word anisotropiese mikrostruktuur-etsing van die oppervlak van die materiaal bereik. Die reeks produkte van reaktiewe ion-etsers (RIE) is gebaseer op platplaat-kapasitiewe gekoppelde plasma-tegnologie en is geskik vir gepatroon-etsing van silikiummateriaal soos enkelkristal silikium, polikristal silikium, silikiumnitrid (SiNy), silikiumoksied (SiO), kwarts (Kwarts) en silisiumkarbid (SiC); kan gebruik word vir patroonering en materiaal-de-layere-etsing van organiese materiaal soos fotoweerstand (PR), PMMAHDMS en ander materiaal; kan gebruik word vir fisieke etsing van metaalmateriaal soos nikkel (Ni), kroom (Cr) en keramiekemateriaal; kan gebruik word vir ruimtemperatuur-indiumfosfied (InP)-materiaal-etsing. Vir sommige etsprosesse wat hoër prosesvereistes het, kan ons ICP RIE-ets ook gebruik word.

Hoofkonfigurasie:

1. Steunmonstergrootte: 4, 8, 12 duim, kompatibel met verskeie klein monstergroottes, steun aanpassing
2. RF-plasma-kragebereik: 300/500/1000 W opsioneel;
3. Molekulêre pompe: 620/1300 //s opsioneel, korrosiebestendige pompstel opsioneel;
4. Voorpompe: meganiese olpomp/droë pomp opsioneel;
5. Drukbeheer: 0 ~1 Torr kiesbaar; konfigurasie sonder drukbeheer kan ook gekies word,
6. Prosesgas: tot 9 prosesgasse kan terselfdertyd geïnstalleer word; temperatuur: 10 grade ~ ruimtemperatuur/-30 grade~ ruimtemperatuur/aanpasbare temperatuurbereik,
7. Agterkant heliumkoeling kan volgens die toepassing ingestel word;
8. Verwijderbare anti-verontreinigingsbekleiding;
9. Laai-sluiting kiesbaar;
10. Volledig outomatiese een-knopp bestuursstelsel;

RIE Toepaslike Materiaalle:

1. Silisium-gebaseerde materiaalle: silisium (Si), silisiumdioxied (SiO2), silisiumpartriet (SiNx), silisiumkarbide (SiC)
2. III-V materiaalle: indiumfosfied (InP), galiumarsenaat (GaAs), galiumpartriet (GaN)
3. II-VI materiaalle: kadmiomtelluur (CdTe)
4. Magneetiese materiaalle/legeringsmateriaalle
5. Metaalmateriaal: aluminium (AI), goud (Au), wolfram (W), titanium (Ti), tantaal (Ta)
6. Organiese materiaal: fotoresist (PR), organiese polimeer (PMMA/HDMS), org

RIE Gerelateerde Toepassings:

1. Graveer van silikium-gebaseerde materiaalle, nanodrukpatrone, arraypatrone en lenspatrone;
2. Kamertemperatuur-etsing van indiumfosfied (InP), patroon-etsing van InP-gebaseerde toestelle in optiese kommunikasie, insluitend golfleierstrukture, resonansholte-strukture en rygestrukture;
3. Etsing van SiC-materiale, geskik vir mikrogolwe-toestelle, kragtoestelle, ens.;
4. Fisieke spatter-etsing word toegepas op sekere metale, soos nikkel (Ni), chroom (Cr), keramiek en ander materiale wat moeilik fisies te etseer is, en patroon-etsing van materiale word bereik deur fisieke bombardement;
5. Etsing van organiese materiale word toegepas op die etsing, skoonmaak en verwydering van organiese materiale soos fotoweerstand (Photo Resist), PMMA, HDMS, Polimer;
6. Laag-voor-laag etsing vir chip-foutanalise (Failure Analysis-FA);
7. Etsering van twee-dimensionele materiaal: W, Mo twee-dimensionele materiaal, graphene;
Toepassingsresultate:
Projekkonfigurasiestelling en masjiestructuurdiagram
Item
MD150-RIE
MD200-RIE
MD200C-RIE
Produkgrootte
≤6 duim
≤8 duim
≤8 duim
RF magbron
0-300W/500W/1000W Aanpasbaar, outomatiese passing
Molekulêre pom
-\/620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Custom
Antiseptiese620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Custom
Voorpom
Meganiese pom\/droë pom
Droë pom
Prosesdruk
Ongekontroleerde druk\/0-1Torr gekontroleerde druk
Gas tipe
H\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/
CHF3\/C4F8\/NF3\/Custom
(Tot 9 kanale, geen korrosiewe & giftige gas)
H2/CH4/O2/N2/Ar/F6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/Cl2/BCl3/HBr(Tot 9 kanale)
Gas bereik
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/aangepast
Laaibaar
Ja/Nee
Ja
Steekproef tem beheer
10°C~Kamer tem/-30°C~100°C/Aangepas
-30°C~100°C /Aangepas
Agter helium koeling
Ja/Nee
Ja
Proses holte bestryk
Ja/Nee
Ja
Holte wand temperatuurbeheer
Nee/Verkers~60/120°C
Verkers-temperatuur 60/120°C
Beheerstelsel
Outomaties/aangepas
Etsermateriaal
Silisium-gebaseerd: Si/SiO2/SiNx···
IV-IV: SiC
Magnetiese materiaal/alloysmateriaal
Metaalmateriaal: Ni/Cr/Al/Au.....
Organiese materiaal: PR/PMMA/HDMS/Organies
film......
Silikoon-gebaseerd: Si/SiO2/SiNx......
III-V (nota 3): InP/GaAs/GaN......
IV-IV: SiC
II-VI (nota 3): CdTe......
Magnetiese materiaal/alloysmateriaal
Metalliese materiaal: Ni/Cr/A1/Au......
Organiese materiaal: PR/PMMA/HDMS/organiese film...
Echte opnames van laboratoriums en fabrieks
Verpaking & Levering
Bedryfsprofiel
Minder-Hightech is verkoop- en diensvertoner in die semikonductor- en elektroniese produkbedryf toerusting. Sedert 2014, is die maatskappy toegewyd om kliënte te verskaf met Uitstekende, Betroubare, en Een-Stap Oplossings vir masjinerie-toerusting.
VRG
1. Oor Prys:
Al onze pryse is mededingend en onderhandelbaar. Die prys wissel afhanklik van die konfigurasie en aanpassingskompleksiteit van jou toestel.

2. Oor Steekproef:
Ons kan steekproefproduksiedienste vir jou verseker, maar jy moet moontlik sommige rekeninge betaal.

3. Oor Betaling:
Nadat die plan bevestig is, moet jy eers 'n voorschot aan ons betaal en die fabriek sal begin om die goeder te voorberei. Nadat die toerusting gereed is en jy die balans betaal, sal ons dit stuur.

4. Oor Levering:
Nadat die toerustingvervaardiging voltooi is, sal ons jou die akseptasievideo stuur, en jy kan ook na die plek kom om die toerusting te inspekteer.

5. Installasie en Afsteling:
Nadat die toerusting by jou fabriek aangekom het, kan ons ingenieurs uitstuur om die toerusting te installeer en af te stem. Ons sal jou 'n aparte offerte vir hierdie diensreeks verskaf.

6. Oor Garantie:
Ons toerusting het 'n 12-maande garantieperiode. Na die garantieperiode, as enige onderdele geskade is en vervang moet word, sal ons slegs die kosteprys vra.

Meer Produkte

Vraag

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Privaatheidsbeleid

Vraag Email Whatsapp WeChat
Top
×

Kom in Kontak